Mécanisme de gravure des couches polymères dans un plasma de basse température
- Author
- VALIEV, K. A1 ; MAKHVILADZE, T. M; SARYCHEV, M. E
[1] AN SSSR, inst. obshchej fiziki, Moskva, Ussr - Source
Žurnal tehničeskoj fiziki. = Journal of technical physics. 1986, Vol 56, Num 7, pp 1329-1335 ; ref : 13 ref
- Publisher
- RAN, Sankt-Peterburg
- Publication country
- Russian Federation
- Document type
- Article
- Language
- Russian
- Keyword (fr)
- Basse pression Basse température Gravure plasma Modèle Polymère Réaction chimique
- Keyword (en)
- Low pressure Low temperature Plasma etching Models Polymer Chemical reaction
- Keyword (es)
- Baja presión Baja temperatura Grabado plasma Modelo Polimero Reaccion quimica
- Classification
- Pascal
- 001 Exact sciences and technology / 001D Applied sciences / 001D10 Polymer industry, paints, wood / 001D10A Technology of polymers / 001D10A04 Machinery and processing / 001D10A04A Plastics / 001D10A04A8 Miscellaneous
- Discipline
- Polymer industry, paints, wood
- Origin
- Inist-CNRS
- Database
- PASCAL
- INIST identifier
- 8260404
Sauf mention contraire ci-dessus, le contenu de cette notice bibliographique peut être utilisé dans le cadre d’une licence CC BY 4.0 Inist-CNRS / Unless otherwise stated above, the content of this bibliographic record may be used under a CC BY 4.0 licence by Inist-CNRS / A menos que se haya señalado antes, el contenido de este registro bibliográfico puede ser utilizado al amparo de una licencia CC BY 4.0 Inist-CNRS
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