Processus non stationnaires d'accumulation et de dissipation du plasma d'électrons-trous dans les semiconducteurs dans des champs électriques intenses
- Author
- EFANOV, Y. M1 ; KARDO-SYSOEV, A. F; SMIRNOVA, I. A
[1] Fiz.-tekh. inst. im. A.F. Ioffe AN SSSR, Leningrad, Ussr - Source
Fizika i tehnika poluprovodnikov. = Physics and technics of semiconductors. 1987, Vol 21, Num 4, pp 620-625 ; ref : 7 ref
- CODEN
- FTPPA4
- ISSN
- 0015-3222
- Scientific domain
- Electronics; Condensed state physics
- Publisher
- Nauka, Sankt-Peterburg
- Publication country
- Russian Federation
- Document type
- Article
- Language
- Russian
- Keyword (fr)
- Champ intense Champ électrique Plasma électron trou Silicium Structure multijonction Structure P+-n-n+
- Keyword (en)
- High field Electric field Electron hole plasma Silicon Multijunction structure
- Keyword (es)
- Campo intenso Campo electrico Plasma electrón hueco Silicio Estructura multiunión
- Classification
- Pascal
- 001 Exact sciences and technology / 001D Applied sciences / 001D03 Electronics / 001D03F Semiconductor electronics. Microelectronics. Optoelectronics. Solid state devices / 001D03F01 Interfaces
- Discipline
- Electronics
- Origin
- Inist-CNRS
- Database
- PASCAL
- INIST identifier
- 8341932
Sauf mention contraire ci-dessus, le contenu de cette notice bibliographique peut être utilisé dans le cadre d’une licence CC BY 4.0 Inist-CNRS / Unless otherwise stated above, the content of this bibliographic record may be used under a CC BY 4.0 licence by Inist-CNRS / A menos que se haya señalado antes, el contenido de este registro bibliográfico puede ser utilizado al amparo de una licencia CC BY 4.0 Inist-CNRS
Install on your browser
"O:13:\"PanistOpenUrl\":36:{s:10:\"\u0000*\u0000openUrl\";N;s:6:\"\u0000*\u0000idc\";N;s:6:\"\u0000*\u0000fmt\";s:7:\"journal\";s:6:\"\u0000*\u0000doi\";s:0:\"\";s:6:\"\u0000*\u0000pii\";s:0:\"\";s:7:\"\u0000*\u0000pmid\";s:0:\"\";s:9:\"\u0000*\u0000atitle\";s:152:\"Processus non stationnaires d'accumulation et de dissipation du plasma d'\u00e9lectrons-trous dans les semiconducteurs dans des champs \u00e9lectriques intenses\";s:9:\"\u0000*\u0000jtitle\";s:32:\"Fizika i tehnika poluprovodnikov\";s:9:\"\u0000*\u0000stitle\";s:21:\"Fiz. teh. poluprovodn\";s:7:\"\u0000*\u0000date\";s:4:\"1987\";s:9:\"\u0000*\u0000volume\";s:2:\"21\";s:8:\"\u0000*\u0000issue\";s:1:\"4\";s:8:\"\u0000*\u0000spage\";s:3:\"620\";s:8:\"\u0000*\u0000epage\";s:3:\"625\";s:8:\"\u0000*\u0000pages\";s:0:\"\";s:7:\"\u0000*\u0000issn\";s:9:\"0015-3222\";s:8:\"\u0000*\u0000eissn\";s:0:\"\";s:9:\"\u0000*\u0000aulast\";s:6:\"EFANOV\";s:10:\"\u0000*\u0000aufirst\";s:4:\"Y. M\";s:9:\"\u0000*\u0000auinit\";s:0:\"\";s:10:\"\u0000*\u0000auinitm\";s:0:\"\";s:5:\"\u0000*\u0000au\";a:2:{i:0;s:18:\"KARDO-SYSOEV, A. F\";i:1;s:14:\"SMIRNOVA, I. A\";}s:9:\"\u0000*\u0000aucorp\";s:0:\"\";s:7:\"\u0000*\u0000isbn\";s:0:\"\";s:8:\"\u0000*\u0000coden\";s:6:\"FTPPA4\";s:8:\"\u0000*\u0000genre\";s:7:\"article\";s:7:\"\u0000*\u0000part\";s:0:\"\";s:9:\"\u0000*\u0000btitle\";s:0:\"\";s:8:\"\u0000*\u0000title\";s:152:\"Processus non stationnaires d'accumulation et de dissipation du plasma d'\u00e9lectrons-trous dans les semiconducteurs dans des champs \u00e9lectriques intenses\";s:8:\"\u0000*\u0000place\";s:15:\"Sankt-Peterburg\";s:6:\"\u0000*\u0000pub\";s:5:\"Nauka\";s:10:\"\u0000*\u0000edition\";s:0:\"\";s:9:\"\u0000*\u0000tpages\";s:0:\"\";s:9:\"\u0000*\u0000series\";s:0:\"\";s:8:\"\u0000*\u0000proxy\";s:30:\"http:\/\/proxyout.inist.fr:8080\/\";s:12:\"\u0000*\u0000integrite\";b:1;}"
Panist access
"O:12:\"IstexOpenUrl\":35:{s:10:\"\u0000*\u0000openUrl\";N;s:6:\"\u0000*\u0000fmt\";s:7:\"journal\";s:6:\"\u0000*\u0000doi\";s:0:\"\";s:6:\"\u0000*\u0000pii\";s:0:\"\";s:7:\"\u0000*\u0000pmid\";s:0:\"\";s:9:\"\u0000*\u0000atitle\";s:152:\"Processus non stationnaires d'accumulation et de dissipation du plasma d'\u00e9lectrons-trous dans les semiconducteurs dans des champs \u00e9lectriques intenses\";s:9:\"\u0000*\u0000jtitle\";s:32:\"Fizika i tehnika poluprovodnikov\";s:9:\"\u0000*\u0000stitle\";s:21:\"Fiz. teh. poluprovodn\";s:7:\"\u0000*\u0000date\";s:4:\"1987\";s:9:\"\u0000*\u0000volume\";s:2:\"21\";s:8:\"\u0000*\u0000issue\";s:1:\"4\";s:8:\"\u0000*\u0000spage\";s:3:\"620\";s:8:\"\u0000*\u0000epage\";s:3:\"625\";s:8:\"\u0000*\u0000pages\";s:0:\"\";s:7:\"\u0000*\u0000issn\";s:9:\"0015-3222\";s:8:\"\u0000*\u0000eissn\";s:0:\"\";s:9:\"\u0000*\u0000aulast\";s:6:\"EFANOV\";s:10:\"\u0000*\u0000aufirst\";s:4:\"Y. M\";s:9:\"\u0000*\u0000auinit\";s:0:\"\";s:10:\"\u0000*\u0000auinitm\";s:0:\"\";s:5:\"\u0000*\u0000au\";a:2:{i:0;s:18:\"KARDO-SYSOEV, A. F\";i:1;s:14:\"SMIRNOVA, I. A\";}s:9:\"\u0000*\u0000aucorp\";s:0:\"\";s:7:\"\u0000*\u0000isbn\";s:0:\"\";s:8:\"\u0000*\u0000coden\";s:6:\"FTPPA4\";s:8:\"\u0000*\u0000genre\";s:7:\"article\";s:7:\"\u0000*\u0000part\";s:0:\"\";s:9:\"\u0000*\u0000btitle\";s:0:\"\";s:8:\"\u0000*\u0000title\";s:152:\"Processus non stationnaires d'accumulation et de dissipation du plasma d'\u00e9lectrons-trous dans les semiconducteurs dans des champs \u00e9lectriques intenses\";s:8:\"\u0000*\u0000place\";s:15:\"Sankt-Peterburg\";s:6:\"\u0000*\u0000pub\";s:5:\"Nauka\";s:10:\"\u0000*\u0000edition\";s:0:\"\";s:9:\"\u0000*\u0000tpages\";s:0:\"\";s:9:\"\u0000*\u0000series\";s:0:\"\";s:8:\"\u0000*\u0000proxy\";s:30:\"http:\/\/proxyout.inist.fr:8080\/\";s:12:\"\u0000*\u0000integrite\";b:1;}"
Istex access
"O:16:\"EuropePMCOpenUrl\":35:{s:10:\"\u0000*\u0000openUrl\";N;s:6:\"\u0000*\u0000fmt\";s:7:\"journal\";s:6:\"\u0000*\u0000doi\";s:0:\"\";s:6:\"\u0000*\u0000pii\";s:0:\"\";s:7:\"\u0000*\u0000pmid\";s:0:\"\";s:9:\"\u0000*\u0000atitle\";s:152:\"Processus non stationnaires d'accumulation et de dissipation du plasma d'\u00e9lectrons-trous dans les semiconducteurs dans des champs \u00e9lectriques intenses\";s:9:\"\u0000*\u0000jtitle\";s:32:\"Fizika i tehnika poluprovodnikov\";s:9:\"\u0000*\u0000stitle\";s:21:\"Fiz. teh. poluprovodn\";s:7:\"\u0000*\u0000date\";s:4:\"1987\";s:9:\"\u0000*\u0000volume\";s:2:\"21\";s:8:\"\u0000*\u0000issue\";s:1:\"4\";s:8:\"\u0000*\u0000spage\";s:3:\"620\";s:8:\"\u0000*\u0000epage\";s:3:\"625\";s:8:\"\u0000*\u0000pages\";s:0:\"\";s:7:\"\u0000*\u0000issn\";s:9:\"0015-3222\";s:8:\"\u0000*\u0000eissn\";s:0:\"\";s:9:\"\u0000*\u0000aulast\";s:6:\"EFANOV\";s:10:\"\u0000*\u0000aufirst\";s:4:\"Y. M\";s:9:\"\u0000*\u0000auinit\";s:0:\"\";s:10:\"\u0000*\u0000auinitm\";s:0:\"\";s:5:\"\u0000*\u0000au\";a:2:{i:0;s:18:\"KARDO-SYSOEV, A. F\";i:1;s:14:\"SMIRNOVA, I. A\";}s:9:\"\u0000*\u0000aucorp\";s:0:\"\";s:7:\"\u0000*\u0000isbn\";s:0:\"\";s:8:\"\u0000*\u0000coden\";s:6:\"FTPPA4\";s:8:\"\u0000*\u0000genre\";s:7:\"article\";s:7:\"\u0000*\u0000part\";s:0:\"\";s:9:\"\u0000*\u0000btitle\";s:0:\"\";s:8:\"\u0000*\u0000title\";s:152:\"Processus non stationnaires d'accumulation et de dissipation du plasma d'\u00e9lectrons-trous dans les semiconducteurs dans des champs \u00e9lectriques intenses\";s:8:\"\u0000*\u0000place\";s:15:\"Sankt-Peterburg\";s:6:\"\u0000*\u0000pub\";s:5:\"Nauka\";s:10:\"\u0000*\u0000edition\";s:0:\"\";s:9:\"\u0000*\u0000tpages\";s:0:\"\";s:9:\"\u0000*\u0000series\";s:0:\"\";s:8:\"\u0000*\u0000proxy\";s:30:\"http:\/\/proxyout.inist.fr:8080\/\";s:12:\"\u0000*\u0000integrite\";b:1;}"
Europe PubMed Central access
"O:11:\"BaseOpenUrl\":35:{s:10:\"\u0000*\u0000openUrl\";N;s:6:\"\u0000*\u0000fmt\";s:7:\"journal\";s:6:\"\u0000*\u0000doi\";s:0:\"\";s:6:\"\u0000*\u0000pii\";s:0:\"\";s:7:\"\u0000*\u0000pmid\";s:0:\"\";s:9:\"\u0000*\u0000atitle\";s:152:\"Processus non stationnaires d'accumulation et de dissipation du plasma d'\u00e9lectrons-trous dans les semiconducteurs dans des champs \u00e9lectriques intenses\";s:9:\"\u0000*\u0000jtitle\";s:32:\"Fizika i tehnika poluprovodnikov\";s:9:\"\u0000*\u0000stitle\";s:21:\"Fiz. teh. poluprovodn\";s:7:\"\u0000*\u0000date\";s:4:\"1987\";s:9:\"\u0000*\u0000volume\";s:2:\"21\";s:8:\"\u0000*\u0000issue\";s:1:\"4\";s:8:\"\u0000*\u0000spage\";s:3:\"620\";s:8:\"\u0000*\u0000epage\";s:3:\"625\";s:8:\"\u0000*\u0000pages\";s:0:\"\";s:7:\"\u0000*\u0000issn\";s:9:\"0015-3222\";s:8:\"\u0000*\u0000eissn\";s:0:\"\";s:9:\"\u0000*\u0000aulast\";s:6:\"EFANOV\";s:10:\"\u0000*\u0000aufirst\";s:4:\"Y. M\";s:9:\"\u0000*\u0000auinit\";s:0:\"\";s:10:\"\u0000*\u0000auinitm\";s:0:\"\";s:5:\"\u0000*\u0000au\";a:2:{i:0;s:18:\"KARDO-SYSOEV, A. F\";i:1;s:14:\"SMIRNOVA, I. A\";}s:9:\"\u0000*\u0000aucorp\";s:0:\"\";s:7:\"\u0000*\u0000isbn\";s:0:\"\";s:8:\"\u0000*\u0000coden\";s:6:\"FTPPA4\";s:8:\"\u0000*\u0000genre\";s:7:\"article\";s:7:\"\u0000*\u0000part\";s:0:\"\";s:9:\"\u0000*\u0000btitle\";s:0:\"\";s:8:\"\u0000*\u0000title\";s:152:\"Processus non stationnaires d'accumulation et de dissipation du plasma d'\u00e9lectrons-trous dans les semiconducteurs dans des champs \u00e9lectriques intenses\";s:8:\"\u0000*\u0000place\";s:15:\"Sankt-Peterburg\";s:6:\"\u0000*\u0000pub\";s:5:\"Nauka\";s:10:\"\u0000*\u0000edition\";s:0:\"\";s:9:\"\u0000*\u0000tpages\";s:0:\"\";s:9:\"\u0000*\u0000series\";s:0:\"\";s:8:\"\u0000*\u0000proxy\";s:30:\"http:\/\/proxyout.inist.fr:8080\/\";s:12:\"\u0000*\u0000integrite\";b:1;}"
Base Search access
"O:12:\"ArXivOpenUrl\":35:{s:10:\"\u0000*\u0000openUrl\";N;s:6:\"\u0000*\u0000fmt\";s:7:\"journal\";s:6:\"\u0000*\u0000doi\";s:0:\"\";s:6:\"\u0000*\u0000pii\";s:0:\"\";s:7:\"\u0000*\u0000pmid\";s:0:\"\";s:9:\"\u0000*\u0000atitle\";s:152:\"Processus non stationnaires d'accumulation et de dissipation du plasma d'\u00e9lectrons-trous dans les semiconducteurs dans des champs \u00e9lectriques intenses\";s:9:\"\u0000*\u0000jtitle\";s:32:\"Fizika i tehnika poluprovodnikov\";s:9:\"\u0000*\u0000stitle\";s:21:\"Fiz. teh. poluprovodn\";s:7:\"\u0000*\u0000date\";s:4:\"1987\";s:9:\"\u0000*\u0000volume\";s:2:\"21\";s:8:\"\u0000*\u0000issue\";s:1:\"4\";s:8:\"\u0000*\u0000spage\";s:3:\"620\";s:8:\"\u0000*\u0000epage\";s:3:\"625\";s:8:\"\u0000*\u0000pages\";s:0:\"\";s:7:\"\u0000*\u0000issn\";s:9:\"0015-3222\";s:8:\"\u0000*\u0000eissn\";s:0:\"\";s:9:\"\u0000*\u0000aulast\";s:6:\"EFANOV\";s:10:\"\u0000*\u0000aufirst\";s:4:\"Y. M\";s:9:\"\u0000*\u0000auinit\";s:0:\"\";s:10:\"\u0000*\u0000auinitm\";s:0:\"\";s:5:\"\u0000*\u0000au\";a:2:{i:0;s:18:\"KARDO-SYSOEV, A. F\";i:1;s:14:\"SMIRNOVA, I. A\";}s:9:\"\u0000*\u0000aucorp\";s:0:\"\";s:7:\"\u0000*\u0000isbn\";s:0:\"\";s:8:\"\u0000*\u0000coden\";s:6:\"FTPPA4\";s:8:\"\u0000*\u0000genre\";s:7:\"article\";s:7:\"\u0000*\u0000part\";s:0:\"\";s:9:\"\u0000*\u0000btitle\";s:0:\"\";s:8:\"\u0000*\u0000title\";s:152:\"Processus non stationnaires d'accumulation et de dissipation du plasma d'\u00e9lectrons-trous dans les semiconducteurs dans des champs \u00e9lectriques intenses\";s:8:\"\u0000*\u0000place\";s:15:\"Sankt-Peterburg\";s:6:\"\u0000*\u0000pub\";s:5:\"Nauka\";s:10:\"\u0000*\u0000edition\";s:0:\"\";s:9:\"\u0000*\u0000tpages\";s:0:\"\";s:9:\"\u0000*\u0000series\";s:0:\"\";s:8:\"\u0000*\u0000proxy\";s:30:\"http:\/\/proxyout.inist.fr:8080\/\";s:12:\"\u0000*\u0000integrite\";b:1;}"
arXiv access
