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Une nouvelle technologie d'appareils de dépôt chimique en phase vapeur. Partie 1 : Présentation et analyse des résultats expérimentaux = A new technology for CVD reactors. Part 1 : Presentation and analysis of experimental resultsVERGNES, Hugues; DUVERNEUIL, Patrick; COUDERC, Jean-Pierre et al.Canadian journal of chemical engineering. 2000, Vol 78, Num 4, pp 793-802, issn 0008-4034Article
