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Etude par spectroscopie d'emission optique de décharges radiofréquence et micro-onde lors du dépôt chimique en phase vapeur (PACVD) dans le système Si-C-H-Ar

Other title
Optical emission spectroscopy of RF and microwave plasmas used for chemical vapor deposition in the Si-C-H-Ar system (en)
Author
ANDRIEUX, M1 ; BADIE, J. M2 ; DUCARROIR, M1 ; THOMAS, L1
[1] C.N.R.S-I.M.P, Université, 52 avenue, de Villeneuve, 66860 Perpignan, France
[2] C.N.R.S-I.M.P, BP 5 Odeillo, 66125 Font-Romeu, France
Issue title
Revêtements durs et ahérents par dépôt chimique = Hard and adherent coatings by chemical vapour deposition (en)
Author (monograph)
DUCARROIR, M (Editor)1
[1] CNRS-IMP, France
Source

Annales de chimie (Paris. 1914). 1998, Vol 23, Num 5-6, pp 743-752 ; ref : 22 ref

CODEN
ANCPAC
ISSN
0151-9107
Scientific domain
Chemistry; Metallurgy, welding
Publisher
Lavoisier, Cachan
Publication country
France
Document type
Article
Language
French
Keyword (fr)
Argon Dépôt chimique phase vapeur modifié Etude expérimentale Hydrogène Hyperfréquence Plasma Silane organique Spectrométrie optique Spectrométrie émission Silane(triméthyl)
Keyword (en)
Argon Modified chemical vapor deposition Experimental study Hydrogen Microwave Plasma Organic silane Optical spectrometry Emission spectrometry
Keyword (es)
Argón Depósito químico fase vapor modificado Estudio experimental Hidrógeno Hiperfrecuencia Plasma Silano orgánico Espectrometría óptica Espectrometría emisión
Classification
Pascal
001 Exact sciences and technology / 001C Chemistry / 001C01 General and physical chemistry / 001C01I Surface physical chemistry / 001C01I04 Solid-gas interface

Discipline
General chemistry and physical chemistry
Origin
Inist-CNRS
Database
PASCAL
INIST identifier
1720464

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