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Etude du matériau déposé par polymérisation plasma de méthylsilane : application à la lithographie 248 et 193 nm

Other title
Photosensitive materials obtained from the plasma polymerization of methylsilane : application for 248 and 193 nm lithography (en)
Author
Monget, Cedric; Segui, Yvan (Advisor (for a thesis or dissertation))
Université de Grenoble 1, Saint-Martin-d'Hères, France (Degree-grantor)
Source

Etude du matériau déposé par polymérisation plasma de méthylsilane : application à la lithographie 248 et 193 nm. 1999, 201 p., ref : 158 ref

Thesis number
99 GRE1 0236
Document type
Thesis (New Ph.D. thesis)
Language
French
Keyword (fr)
Condition mise en œuvre Etude expérimentale Limite résolution Méthode PECVD Optimisation Photolithographie Photorésist Polymérisation décharge électrique Procédé voie sèche Préparation Résistance oxydation Silane polymère
Keyword (en)
Processing parameter Experimental study Resolving power Plasma enhanced chemical vapor deposition Optimization Photolithography Photoresist Glow discharge polymerization Dry process Preparation Oxidation stability Polysilane
Keyword (es)
Condición puesta en ejecución Estudio experimental Poder resolución Optimización Fotolitografía Fotorresistente Polimerización descarga eléctrica Procedimiento vía seca Preparación Resistencia a la oxidación Silano polímero
Classification
Pascal
001 Exact sciences and technology / 001D Applied sciences / 001D09 Physicochemistry of polymers / 001D09B Polymers and radiations / 001D09B01 Polymerization

Discipline
Physical chemistry of polymers
Origin
Inist-CNRS
Database
PASCAL
INIST identifier
198201

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