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An intense-current electron beam source with low-level plasma formation

Autor
LIMIN LI1 ; LIE LIU1 ; JIANCHUN WEN1 ; TAO MEN1 ; YONGGUI LIU1
[1] College of Photoelectric Science and Engineering, National University of Defense Technology, Changsha 410073, China
Fuente

Journal of physics. D, Applied physics (Print). 2008, Vol 41, Num 12 ; 125201.1-125201.7 ; ref : 23 ref

CODEN
JPAPBE
ISSN
0022-3727
Campo Científico
Condensed state physics; Physics; Plasma physics
Editor
Institute of Physics, Bristol
País de la publicación
United Kingdom
Tipo de documento
Article
Idioma
English
Palabra clave (fr)
Carbone Domaine temps ns Durée impulsion Emission électronique Etude expérimentale Expansion plasma Faisceau électron Forte intensité Gaine plasma Générateur impulsion haute tension Impulsion ultracourte Revêtement 5240K Source électron
Palabra clave (in)
Carbon ns range Pulse width Electron emission Experimental study Plasma expansion Electron beams High current Plasma sheaths High-voltage pulse generators Ultrashort pulse Coatings
Palabra clave (es)
Duración impulso Gran amperaje Impulsión ultracorto
Clasificación
Pascal
001 Exact sciences and technology / 001B Physics / 001B50 Physics of gases, plasmas and electric discharges / 001B50B Physics of plasmas and electric discharges / 001B50B40 Plasma interactions (nonlaser) / 001B50B40K Plasma sheaths

Disciplina
Physics of gases, plasmas and electric discharges
Procedencia
Inist-CNRS
Base de datos
PASCAL
Identificador INIST
20431541

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