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Perspectives en gravure sèche des nouveaux réacteurs plasma : applications à la microélectronique

Other title
Future prospects in dry etching of new plasma reactors (en)
Author
PECCOUD, L
CEA/DTA/LETI, 38041 Grenoble, France
Conference title
8e Colloque international sur les procédés plasma, 10-14 juin 1991, Antibes-Juan-Les-Pins, France
Conference name
CIP 91 [Colloque international sur les procédés plasma] (8 ; Antibes-Juan-les-Pins 1991-06-10)
Author (monograph)
Société française du vide. comité couches minces, matériaux et technologie pour l'électronique, France (Funder/Sponsor)
Source

Le Vide, les couches minces. 1991, Vol 47, Num 256, pp 76-84 ; SUP ; ref : 31 ref

CODEN
VCMIDS
ISSN
0223-4335
Scientific domain
Metallurgy, welding; Physics
Publisher
Société française du vide, Paris
Publication country
France
Document type
Conference Paper
Language
French
Classification
Pascal
001 Exact sciences and technology / 001B Physics / 001B80 Cross-disciplinary physics: materials science; rheology / 001B80A Materials science / 001B80A15 Methods of deposition of films and coatings; film growth and epitaxy

Discipline
Physics and materials science
Origin
Inist-CNRS
Database
PASCAL
INIST identifier
5056371

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