Rôle de la température du substrat dans la synthèse des films de diamant déposés par CVD assistée plasma microonde
- Other title
- Role of substrate temperature in diamond film synnthesis deposited by microwave assisted plasma CVD (en)
- Author
- ROY, F; MERMOUX, M; MARCUS, B
CNRS, S2MC-ENSEEG, 38402 Saint Martin d'Hères, France - Conference title
- 8e Colloque international sur les procédés plasma, 10-14 juin 1991, Antibes-Juan-Les-Pins, France
- Conference name
- CIP 91 [Colloque international sur les procédés plasma] (8 ; Antibes-Juan-les-Pins 1991-06-10)
- Author (monograph)
- Société française du vide. comité couches minces, matériaux et technologie pour l'électronique, France (Funder/Sponsor)
- Source
Le Vide, les couches minces. 1991, Vol 47, Num 256, pp 353-355 ; SUP ; ref : 2 ref
- CODEN
- VCMIDS
- ISSN
- 0223-4335
- Scientific domain
- Metallurgy, welding; Physics
- Publisher
- Société française du vide, Paris
- Publication country
- France
- Document type
- Conference Paper
- Language
- French
- Classification
- Pascal
- 001 Exact sciences and technology / 001B Physics / 001B80 Cross-disciplinary physics: materials science; rheology / 001B80A Materials science / 001B80A15 Methods of deposition of films and coatings; film growth and epitaxy
- Discipline
- Physics and materials science
- Origin
- Inist-CNRS
- Database
- PASCAL
- INIST identifier
- 5056450
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