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Réalisation d'équipements de gravure et pulvérisation avec des changements de procédés entièrement automatisés grâce à la nouvelle ligne de générateurs de RF plasma products

Other title
Realization of etching and sputtering equipments with entirely automatized process changes owing to new class of generators of RF PLASMA PRODUCTS (en)
Author
TUFFIN, G
Société TECHMATION, 75019 Paris, France
Conference title
8e Colloque international sur les procédés plasma, 10-14 juin 1991, Antibes-Juan-Les-Pins, France
Conference name
CIP 91 [Colloque international sur les procédés plasma] (8 ; Antibes-Juan-les-Pins 1991-06-10)
Author (monograph)
Société française du vide. comité couches minces, matériaux et technologie pour l'électronique, France (Funder/Sponsor)
Source

Le Vide, les couches minces. 1991, Vol 47, Num 256, pp 395-397 ; SUP

CODEN
VCMIDS
ISSN
0223-4335
Scientific domain
Metallurgy, welding; Physics
Publisher
Société française du vide, Paris
Publication country
France
Document type
Conference Paper
Language
French
Classification
Pascal
001 Exact sciences and technology / 001B Physics / 001B80 Cross-disciplinary physics: materials science; rheology / 001B80A Materials science / 001B80A15 Methods of deposition of films and coatings; film growth and epitaxy

Discipline
Physics and materials science
Origin
Inist-CNRS
Database
PASCAL
INIST identifier
5056462

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