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Effects of misfit dislocations and thermally induced strain on the film properties of heteroepitaxial GaAs on Si

Autor
LUM, R. M1 ; KLINGERT, J. K; BYLSMA, R. B; GLASS, A. M; MACRANDER, A. T; HARRIS, T. D; LAMONT, M. G
[1] AT&T Bell Laboratories, Holmdel NJ 07733, United States
Fuente

Journal of applied physics. 1988, Vol 64, Num 12, pp 6727-6732 ; ref : 30 ref

CODEN
JAPIAU
ISSN
0021-8979
Campo Científico
Crystallography; Electronics; Optics; Condensed state physics; Physics
Editor
American Institute of Physics, Woodbury, NY
País de la publicación
United States
Tipo de documento
Article
Idioma
English
Palabra clave (fr)
Caractéristique capacité tension Composé minéral Concentration porteur charge Contrainte interne Couche épitaxique Diffraction RX Dislocation Etude expérimentale Gallium Arséniure Interface Microscopie électronique balayage Microstructure Photoluminescence Semiconducteur
Palabra clave (in)
Voltage capacity curve Inorganic compound Charge carrier concentration Internal stress Epitaxial film X ray diffraction Dislocation Experimental study Gallium Arsenides Interface Scanning electron microscopy Microstructure Photoluminescence Semiconductor materials
Palabra clave (es)
Característica capacidad tensión Compuesto inorgánico Concentración portador carga Tensión interna Capa epitáxica Difracción RX Dislocación Estudio experimental Galio Interfase Microscopía electrónica barrido Microestructura Fotoluminiscencia Semiconductor(material)
Clasificación
Pascal
001 Exact sciences and technology / 001B Physics / 001B70 Condensed matter: electronic structure, electrical, magnetic, and optical properties / 001B70H Optical properties and condensed-matter spectroscopy and other interactions of matter with particles and radiation / 001B70H55 Photoluminescence

Disciplina
Physics of condensed state : electronic structure, electrical, magnetic and optical properties
Procedencia
Inist-CNRS
Base de datos
PASCAL
Identificador INIST
6773831

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