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Etude de la concentration superficielle de GaInAs, GaAlAs et GaPAs par rendement de photoémission X

Otro titulo
Study of the surface concentration of GaInAs, GaAlAs and GaPAs by X-ray photoemission yield (en)
Autor
BOUABELLOU, A1 ; SCHMELEV, V. N
[1] Univ. Constantine, lab. physique solide, Algeria
Fuente

Journal de microscopie et de spectroscopie électroniques. 1985, Vol 10, Num 6, pp 551-562 ; ref : 8 ref

CODEN
JMSEDI
ISSN
0395-9279
Campo Científico
Crystallography; Metallurgy, welding; Condensed state physics
Editor
Société française de microscopie électronique, Ivry-sur-Seine
País de la publicación
France
Tipo de documento
Article
Idioma
French
Palabra clave (fr)
Aluminium Gallium Arséniure Mixte Composition chimique Composé III-V Composé minéral Couche mince Emission photoélectronique Epitaxie Etude expérimentale Gallium Indium Arséniure Mixte Gallium Phosphoarséniure Rayon X Rendement Surface
Palabra clave (in)
Aluminium Gallium Arsenides Mixed Chemical composition III-V compound Inorganic compound Thin film Photoelectron emission Epitaxy Experimental study Gallium Indium Arsenides Mixed Gallium Arsenides phosphides X ray Yield Surface
Palabra clave (es)
Aluminio Composicion quimica Compuesto III-V Compuesto mineral Capa delgada Emisión fotoelectrónica Epitaxia Estudio experimental Galio Galio Rayos X Rendimiento Superficie
Clasificación
Pascal
001 Exact sciences and technology / 001B Physics / 001B60 Condensed matter: structure, mechanical and thermal properties / 001B60H Surfaces and interfaces; thin films and whiskers (structure and nonelectronic properties) / 001B60H60 Physical properties of thin films, nonelectronic

Disciplina
Physics of condensed state : structure, mechanical and thermal properties
Procedencia
Inist-CNRS
Base de datos
PASCAL
Identificador INIST
7866374

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