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Selection :

Mécanisme de gravure des couches polymères dans un plasma de basse température

Author
VALIEV, K. A1 ; MAKHVILADZE, T. M; SARYCHEV, M. E
[1] AN SSSR, inst. obshchej fiziki, Moskva, Ussr
Source

Žurnal tehničeskoj fiziki. = Journal of technical physics. 1986, Vol 56, Num 7, pp 1329-1335 ; ref : 13 ref

CODEN
ZTEFA3
ISSN
0044-4642
Scientific domain
Physics
Publisher
RAN, Sankt-Peterburg
Publication country
Russian Federation
Document type
Article
Language
Russian
Keyword (fr)
Basse pression Basse température Gravure plasma Modèle Polymère Réaction chimique
Keyword (en)
Low pressure Low temperature Plasma etching Models Polymer Chemical reaction
Keyword (es)
Baja presión Baja temperatura Grabado plasma Modelo Polimero Reaccion quimica
Classification
Pascal
001 Exact sciences and technology / 001D Applied sciences / 001D10 Polymer industry, paints, wood / 001D10A Technology of polymers / 001D10A04 Machinery and processing / 001D10A04A Plastics / 001D10A04A8 Miscellaneous

Discipline
Polymer industry, paints, wood
Origin
Inist-CNRS
Database
PASCAL
INIST identifier
8260404

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