RUECKSEITENMETALLIERUNG VON HALBLEITERBAUELEMENTEN MIT DEM PLASMATRON
- Other title
- METALLISATION DE LA FACE ARRIERE DE COMPOSANTS A SEMICONDUCTEURS A L'AIDE DU PLASMATRON (fr)
- Author
- PAGEL L; KUNKEL W; HEISIG U; STEINFELDER K
FORSCHUNGSINST. MANFRED VON ARDENNE, DRESDEN, DDR - Source
- TECHNIK; DDR; DA. 1979; VOL. 34; NO 4; PP. 237-240; BIBL. 10 REF.
- Document type
- Article
- Language
- German
- Keyword (fr)
- DEPOT METHODE PHASE VAPEUR PULVERISATION CATHODIQUE PLASMATRON DISPOSITIF PUISSANCE COUCHE MINCE APPAREILLAGE TRANSISTOR CIRCUIT INTEGRE HYBRIDE METALLISATION APPLICATION PLASMA ELECTRONIQUE PHYSIQUE DES PLASMAS
- Keyword (en)
- GROWTH FROM VAPOR CATHODIC SPUTTERING PLASMATRON POWER DEVICE THIN FILM TRANSISTOR HYBRID INTEGRATED CIRCUIT METALLIZING PLASMA APPLICATION ELECTRONICS PLASMA PHYSICS
- Keyword (es)
- ELECTRONICA FISICA DE LAS PLASMAS
- Classification
- Discipline
- Atomic and molecular physics Electronics
- Origin
- Inist-CNRS
- Database
- PASCAL
- INIST identifier
- PASCAL8030084599
Sauf mention contraire ci-dessus, le contenu de cette notice bibliographique peut être utilisé dans le cadre d’une licence CC BY 4.0 Inist-CNRS / Unless otherwise stated above, the content of this bibliographic record may be used under a CC BY 4.0 licence by Inist-CNRS / A menos que se haya señalado antes, el contenido de este registro bibliográfico puede ser utilizado al amparo de una licencia CC BY 4.0 Inist-CNRS
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