CARACTERISATION ELECTROCHIMIQUE DU SILICIUM DOPE PAR IMPLANTATION IONIQUE
- Author
- MAAREF ABDERRAGAK
- Source
- FRA; DA. 1979; 74 P.: ILL.; 30 CM; BIBL. DISSEM.; TH. 3EME CYCLE: ELECTROCHIM./PARIS 6/1979
- Document type
- Thesis
- Language
- French
- Keyword (fr)
- INTERFACE INTERFACE ELECTROLYTE SEMICONDUCTEUR SILICIUM ACIDE FLUORHYDRIQUE IMPLANTATION ION GENERATION PORTEUR CHARGE TRAITEMENT THERMIQUE CARACTERISTIQUE COURANT TENSION CHARGE ESPACE PROPRIETE PHYSIQUE PORTEUR CHARGE ELECTRONIQUE PHYSIQUE SOLIDE
- Keyword (en)
- INTERFACES SEMICONDUCTOR ELECTROLYTE INTERFACE SILICON ION IMPLANTATION CHARGE CARRIER GENERATION HEAT TREATMENT VOLTAGE CURRENT CURVE SPACE CHARGE PHYSICAL PROPERTIES CHARGE CARRIER ELECTRONICS SOLID PHYSICS
- Keyword (es)
- ELECTRONICA FISICA DEL ESTADO CONDENSADO
- Classification
- Pascal
- 001 Exact sciences and technology / 001B Physics / 001B60 Condensed matter: structure, mechanical and thermal properties
- Discipline
- Electronics Physics of condensed state : structure, mechanical and thermal properties
- Origin
- Inist-CNRS
- Database
- PASCAL
- INIST identifier
- PASCAL8030141860
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