CALCUL DU CONTRASTE ET DU TEMPS D'EXPOSITION DANS LA REPRODUCTION DE MASQUES PAR RAYONS X ET EXPERIENCES EMPLOYANT LE RAYONNEMENT SYNCHROTRON D'UN ANNEAU DE STOCKAGE
- Author
- TROTEL J; FAY B
THOMSON-CSF,ORSAY 91401,FRA - Source
- COLLOQUE INTERNATIONAL SUR LA MICROLITHOGRAPHIE, MICROELECTRONIQUE, OPTIQUE; FRA; DA. 1977; DGRST-7771946; PP. 201-209; ABS. ENG; BIBL. 14 REF.
- Document type
- Conference Paper
- Language
- French
- Keyword (fr)
- FABRICATION MICROELECTRONIQUE MASQUE REPLIQUE RAYON X ANNEAU STOCKAGE RAYONNEMENT SYNCHROTRON EXPOSITION TEMPS CONTRASTE ELECTRONIQUE
- Keyword (en)
- MICROELECTRONIC FABRICATION REPLICA X-RAYS STORAGE RING SYNCHROTRON RADIATION EXPOSURE TIME CONTRAST ELECTRONICS
- Keyword (es)
- ELECTRONICA
- Classification
- Discipline
- Electronics
- Origin
- Inist-CNRS
- Database
- PASCAL
- INIST identifier
- PASCAL8030416055
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