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CALCUL DU CONTRASTE ET DU TEMPS D'EXPOSITION DANS LA REPRODUCTION DE MASQUES PAR RAYONS X ET EXPERIENCES EMPLOYANT LE RAYONNEMENT SYNCHROTRON D'UN ANNEAU DE STOCKAGE

Author
TROTEL J; FAY B
THOMSON-CSF,ORSAY 91401,FRA
Source
COLLOQUE INTERNATIONAL SUR LA MICROLITHOGRAPHIE, MICROELECTRONIQUE, OPTIQUE; FRA; DA. 1977; DGRST-7771946; PP. 201-209; ABS. ENG; BIBL. 14 REF.
Document type
Conference Paper
Language
French
Keyword (fr)
FABRICATION MICROELECTRONIQUE MASQUE REPLIQUE RAYON X ANNEAU STOCKAGE RAYONNEMENT SYNCHROTRON EXPOSITION TEMPS CONTRASTE ELECTRONIQUE
Keyword (en)
MICROELECTRONIC FABRICATION REPLICA X-RAYS STORAGE RING SYNCHROTRON RADIATION EXPOSURE TIME CONTRAST ELECTRONICS
Keyword (es)
ELECTRONICA
Classification
Pascal
001 Exact sciences and technology / 001D Applied sciences / 001D03 Electronics

Discipline
Electronics
Origin
Inist-CNRS
Database
PASCAL
INIST identifier
PASCAL8030416055

Sauf mention contraire ci-dessus, le contenu de cette notice bibliographique peut être utilisé dans le cadre d’une licence CC BY 4.0 Inist-CNRS / Unless otherwise stated above, the content of this bibliographic record may be used under a CC BY 4.0 licence by Inist-CNRS / A menos que se haya señalado antes, el contenido de este registro bibliográfico puede ser utilizado al amparo de una licencia CC BY 4.0 Inist-CNRS

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