CARACTERISATION PAR METHODES CAPACITIVES DE COUCHES DE SILICIUM IMPLANTEES PUIS GUERIES PAR RECUIT THERMIQUE OU LASER
- Other title
- CHARACTERIZATION BY CAPACITIVE METHODS OF SILICON LAYERS IMPLANTED AND SUBSEQUENTLY CURED BY HEAT ANNEALING OR LASER (en)
- Author
- BLOSSE A
- Source
- FRA; DA. 1981; 74 P.-PL.; 30 CM; BIBL. DISSEM.; TH. DOCT.-ING./LILLE 1/1981/286
- Document type
- Thesis
- Language
- French
- Keyword (fr)
- NON METAL DEFAUT PONCTUEL DEFAUT IRRADIATION IRRADIATION LASER RECUIT TRAITEMENT THERMIQUE METHODE ELECTRIQUE ETUDE EXPERIMENTALE FAISCEAU LASER COUCHE MINCE IMPLANTATION ION SILICIUM ARSENIC ION ATOMIQUE CRISTALLOGRAPHIE PHYSIQUE SOLIDE
- Keyword (en)
- NON METAL POINT DEFECT IRRADIATION DEFECT ANNEALING HEAT TREATMENT ELECTRICAL METHOD EXPERIMENTAL STUDY IRRADIATION LASER BEAM THIN FILM ION IMPLANTATION SILICON CRISTALLOGRAPHY SOLID PHYSICS
- Keyword (es)
- CRISTALOGRAFIA FISICA DEL ESTADO CONDENSADO
- Classification
- Pascal
- 001 Exact sciences and technology / 001B Physics / 001B60 Condensed matter: structure, mechanical and thermal properties / 001B60A Structure of solids and liquids; crystallography
- Discipline
- Physics of condensed state : structure, mechanical and thermal properties
- Origin
- Inist-CNRS
- Database
- PASCAL
- INIST identifier
- PASCAL82X0172538
Sauf mention contraire ci-dessus, le contenu de cette notice bibliographique peut être utilisé dans le cadre d’une licence CC BY 4.0 Inist-CNRS / Unless otherwise stated above, the content of this bibliographic record may be used under a CC BY 4.0 licence by Inist-CNRS / A menos que se haya señalado antes, el contenido de este registro bibliográfico puede ser utilizado al amparo de una licencia CC BY 4.0 Inist-CNRS
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