Performance characteristics of a new high rate magnetron sputtering cathode = Performances d'une nouvelle cathode de pulvérisation à haute puissance à magnétronCLASS, W. H.Thin solid films. 1983, Vol 107, Num 4, pp 379-385, issn 0040-6090Article

Ion sputtering targets electrolytically prepared = Cibles de pulvérisation par ions préparées électrolytiquementJOKIC, T; GONCIC, B.Applied surface science. 1986, Vol 25, Num 1-2, pp 213-216, issn 0169-4332Article

Planarization by radio-frequency bias sputtering of aluminum as studied experimentally and by computer simulation = Aplanissement par pulvérisation haute fréquence de l'aluminium, étudié expérimentalement et par simulation sur ordinateurBADER, H. P; LARDON, M. A.Journal of vacuum science and technology. A. Vacuum, surfaces, and films. 1985, Vol 3, Num 6, pp 2167-2171, issn 0734-2101Article

Sputter coating = Revêtement par pulvérisation cathodiqueHOWSON, R. P.Surfacing journal. 1983, Vol 14, Num 2, pp 27-32, issn 0307-7365Article

Composition of magnetron-sputtered aluminum alloy filmsLIU, D. R; NORIAN, K. H.Thin solid films. 1989, Vol 173, Num 1, pp L115-L118, issn 0040-6090Article

An investigation of the sputtering process in the microwave-coupled hollow cathode discharge = Une étude du processus de pulvérisation dans la décharge d'une cathode creuse couplée microondeVIOLANTE, N; SENOFONTE, O; MARCONI, A et al.Canadian journal of spectroscopy. 1988, Vol 33, Num 2, pp 49-55, issn 0045-5105Article

Effect of segregation on preferred sputtering of alloys = Influence de la ségrégation sur la pulvérisation sélective des alliagesITOH, N; MORITA, K.Radiation effects. 1984, Vol 80, Num 3-4, pp 163-182, issn 0033-7579Article

Eigenschaften von dünnen Molybdänschichten = Properties of thin Mo filmsRASCHKE, T; KAUFMANN, C; GRUÊNEWALD, W et al.Wissenschaftliche Zeitschrift der Technischen Universität Karl-Marx-Stadt. 1990, Vol 32, Num 5, pp 661-667, issn 0863-0615, 7 p.Article

Caractçrisation des dépôts d'aluminium sur magnésium obtenus par pulvérisation cathodique = Charactérisation of aluminium coatings on magnesium produced by cathode sputteringVENAULT, A; BECHET, B; SAURAT, M et al.Métaux. Corrosion industrie. 1984, Vol 60, Num 709, pp 281-290, issn 0026-1084Article

Amorphous Cu-Zr foils = Feuilles minces d'alliages Cu-Zr amorphesFELDER, R. J; HAUSER, J. J.Materials letters (General ed.). 1984, Vol 2, Num 3, pp 232-233, issn 0167-577XArticle

Oberflaechenveredelung durch Kathodenzerstaeubung = Surface coating by sputteringMUENZ, W.D.Gas, Wärme international. 1984, Vol 33, Num 6/7, pp 286-289, issn 0020-9384Article

Reactive high rate d.c. sputtering of oxides = Pulvérisation réactive à grande vitesse en courant continu des oxydesSCHERER, M; WIRZ, P.Thin solid films. 1984, Vol 119, Num 2, pp 203-209, issn 0040-6090Conference Paper

An empirical formula for angular dependence of sputtering yields = Formule empirique pour les rendements de pulvérisation en fonction de l'angle d'incidenceYAMAMURA, Y.Radiation effects. 1984, Vol 8, Num 1-2, pp 57-72, issn 0033-7579Article

Fabrication and structural characterization of metal films coated on cenosphere particles by magnetron sputtering depositionXIAOZHENG YU; ZHIGANG SHEN; ZHENG XU et al.Applied surface science. 2007, Vol 253, Num 17, pp 7082-7088, issn 0169-4332, 7 p.Article

Densitomètre laser pour la mesure d'épaisseur de couches déposées par pulvérisation cathodique = A laser densitometer to measure the thickness of cathode sputtered coatingsCANTELOUP, J; DRIEUX, M.Le Vide, les couches minces. 1982, Num 212, pp 239-242, issn 0223-4335Article

A magnetic ion-separator protecting the cathode of a high-power electron gunHERB, R; HERRMANN, K.-H; NISCH, W et al.Optik (Stuttgart). 1995, Vol 100, Num 4, pp 149-154, issn 0030-4026Article

On the adhesion of nitride coatings on HSS substrates = Adhérence des revêtements de nitrure sur des supports en acier rapideKOPACZ, U; JEHN, H. A.Vacuum. 1986, Vol 36, Num 1-3, pp 81-84, issn 0042-207XArticle

The properties of magnetron sputtered CoNi thin films = Propriétés des films minces de CoNi pulvérisés au magnétronSPENCER, A. G; HOWSON, R. P.Vacuum. 1986, Vol 36, Num 1-3, pp 103-105, issn 0042-207XArticle

Process and engineering benefits of sputter-ion-plated titanium nitride coatings = Procédé et bénéfices technologiques des dépôts ioniques pulvérisés de nitrure de titaneJACOBS, M. H.Surface & coatings technology. 1986, Vol 29, Num 3, pp 221-237, issn 0257-8972Conference Paper

Preparation and characterization of carbon and titanium carbide coatings = Préparation et caractérisation de revêtements de carbone et de carbure de titaneDUA, A. K; GEORGE, V. C; AGARWALA, R. P et al.Thin solid films. 1984, Vol 121, Num 1, pp 35-42, issn 0040-6090Article

REP atomization mechanismusCHAMPAGNE, B; ANGERS, R.PMI. Powder metallurgy international. 1984, Vol 16, Num 3, pp 125-128, issn 0048-5012Article

Oxydation à température ambiante de couches de titane déposées par pulvérisationNAKAMURA, K; UDA, M.Nippon Kinzoku Gakkaishi (1952). 1985, Vol 49, Num 12, pp 1083-1087, issn 0021-4876Article

Remplacement du cadmium électrolytique par des revêtements d'aluminium et d'aluminium-zinc = Substitution of electrolytical cadmium by aluminum and aluminum-zinc coatingsGILLET, René; AUBERT, André; RENAUX, Philippe et al.1984, 18 p.Report

Titanium carbide thin films obtained by reactive magnetron sputtering = Couches minces de carbure de titane obtenue par pulvérisation réactive par magnétronGEORGIEV, G; FESCHIEV, N; POPOV, D et al.Vacuum. 1986, Vol 36, Num 10, pp 595-597, issn 0042-207XConference Paper

Sputtering of CoSi(100) and CoSi₂(100) single crystal surfaces = Prospection par pulvérisation sur la surface de monocristaux CoSi(100) et CoSi₂(100)CASTRO, G. R; KUPPERS, J; IVASHCHENKO, Y et al.Applications of surface science. 1983, Vol 16, Num 3-4, pp 453-462, issn 0378-5963Article