PHOTOLITHOGRAPHIE UV DE COURTE LONGUEUR D'ONDE A BASE DE DECHARGES PLASMODYNAMIQUES DE GRANDE INTENSITE D'UN COMPRESSEUR DE MAGNETO-PLASMAKOZLOV NP; KAMRUKOV AS; KASHNIKOV GN et al.1983; ZURNAL TEHNICESKOJ FIZIKI; ISSN 0044-4642; SUN; DA. 1983; VOL. 53; NO 3; PP. 601-603; BIBL. 5 REF.Article

ADVANCED 1X PROJECTION PHOTOLITHOGRAPHYHAKEY M; STRAUB W.1982; J. ELECTRON. MATER.; ISSN 0361-5235; USA; DA. 1982; VOL. 11; NO 4; PP. 813-830; BIBL. 7 REF.Article

PROJECTION LITHOGRAPHY WITH HIGH NUMERICAL APERTURE OPTICSOLDHAM WG; NEUREUTHER AR.1981; SOLID STATE TECHNOL.; ISSN 0038-111X; USA; DA. 1981; VOL. 24; NO 5; PP. 106-140; 7 P.; BIBL. 5 REF.Article

THE IMPACT OF PHOTORESIST ON IMAGE SIZEROTTMAN HR.1982; J. APPL. PHOTOGR. ENG.; ISSN 0098-7298; USA; DA. 1982; VOL. 8; NO 2; PP. 101-104; BIBL. 1 REF.Article

LASER IMAGING OF ELECTRONIC CIRCUITRY: AN ALTERNATIVE TO THE PHOTOMASK PROCESS1981; INSUL., CIRCUITS; ISSN 0020-4544; USA; DA. 1981; VOL. 27; NO 10; PP. 112Article

RECTANGULAR-PROFILE DIFFRACTION GRATING FROM SINGLE-CRYSTAL SILICONJOSSE M; KENDALL DL.1980; APPL. OPT.; USA; DA. 1980; VOL. 19; NO 1; PP. 72-76; BIBL. 11 REF.Article

FABRICATION TECHNIQUES FOR MICRODEVICES IN SOFT SUPERCONDUCTORSBERCHIER JL; SANCHEZ DH.1978; REV. SCI. INSTRUM.; USA; DA. 1978; VOL. 49; NO 10; PP. 1452-1459; BIBL. 34 REF.Article

TRENDS IN SEMICONDUCTOR PHOTOLITHOGRAPHY.MARKSTEIN HW.1977; ELECTRON. PACKAG. PRODUCT.; U.S.A.; DA. 1977; VOL. 17; NO 3; PP. 25-33 (6P.); BIBL. 2 REF.Article

OBJECTIFS POUR LA PHOTOLITHOGRAVURE DE PROJECTIONGRAMMATIN AP; LARINA RM; GORBUNOVA VA et al.1976; OPT.-MEKH. PROMYSHL.; S.S.S.R.; DA. 1976; NO 11; PP. 60-69; BIBL. 26 REF.Article

KOSTENOPTIMIERUNG BEIM VERSCHLEISSMATERIAL AM BEISPIEL DER SCHABLONENNUTZUNG IN DER FOTOLITHOGRAFIE = L'OPTIMALISATION DES FRAIS DU MATERIEL D'USURE PRESENTEE A L'EXEMPLE DE L'UTILISATION DE MASQUES DANS LA PHOTOLITHOGRAPHIEBALARIN M.1982; NACHRICHTENTECHNIK. ELEKTRONIK; ISSN 0323-4657; DDR; DA. 1982; VOL. 32; NO 12; PP. 490-494; BIBL. 2 REF.Article

BELEUCHTUNGSOPTIK IN FOTOLITHOGRAPHISCHEN BELICHTUNGSEINHEITEN = SYSTEME OPTIQUE D'ECLAIRAGE DANS LES DISPOSITIFS D'EXPOSITION EN PHOTOLITHOGRAPHIELEIPOLD H; SYMANOWSKI C.1980; FEINGERAETETECHNIK; ISSN 0014-9683; DDR; DA. 1980; VOL. 29; NO 12; PP. 561-564; ABS. ENG/FRE; BIBL. 6 REF.Article

SINGLE-STEP OPTICAL LIFT-OFF PROCESSHATZAKIS M; CANAVELLO BS; SHAW JM et al.1980; IBM J. RES. DEVELOP.; ISSN 0018-8646; USA; DA. 1980; VOL. 24; NO 4; PP. 452-460; BIBL. 19 REF.Article

UV EXPOSURE SYSTEMS FOR PRINTED CIRCUIT MANUFACTURE.1978; CIRCUITS MANUF.; U.S.A.; DA. 1978; VOL. 18; NO 5; PP. 45-48Article

RESINE PHOTOSENSIBLE NEGATIVE A BASE DE PLEINOMERES DE CYCLOHEXADIENE-1,3 POUR L'OBTENTION DE RESEAUX OPTIQUES ET D'ECHELLES PAR UNE METHODE DE PHOTOLITHOGRAPHIENAUMOVA SF; FLEJSHER AI; YURINA O YU et al.1978; OPT.-MEKH. PROMYSHL.; S.S.S.R.; DA. 1978; VOL. 45; NO 2; PP. 40-41; BIBL. 5 REF.Article

LES PHOTOCOPIEURS ET LA TECHNIQUE DES CIRCUITS IMPRIMESGUEULLE P.1980; ELECTRON. APPL.; FRA; DA. 1980; NO 13; PP. 75-78Article

PROFILE SIMULATION OF NEGATIVE RESIST MRS USING THE SAMPLE PHOTOLITHOGRAPHY SIMULATORMATSUZAWA T; KISHIMOTO A; TOMIOKA H et al.1982; ELECTRON DEVICE LETTERS; ISSN 0193-8576; USA; DA. 1982; VOL. 3; NO 3; PP. 58-60; BIBL. 6 REF.Article

METHODE PHOTOLITHOGRAPHIQUE D'OBTENTION D'UN DESSIN METALLISE SUR DES ECHANTILLONS EN OKMALBYLINA IE; KOSITSYNA NN; ROTNER YU M et al.1982; PRIB. TEH. EKSP.; ISSN 0032-8162; SUN; DA. 1982; NO 4; PP. 223-224; BIBL. 7 REF.Article

PROJECTION PHOTOLITHOGRAPHY-LIFTOFF TECHNIQUES FOR PRODUCTION OF 0.2-MU M METAL PATTERNSFEUER MD; PROBER DE.1981; IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES; ISSN 0018-9383; USA; DA. 1981; VOL. 28; NO 11; PP. 1375-1378; BIBL. 11 REF.Article

OBTENTION DE "RESEAUX INVERSES" POUR FILTRES UTILISES DANS L'INFRAROUGE COTE GRANDES LONGUEURS D'ONDECHERNYAVSKAYA NA; IVANOVA VM; ZOLOTOVA VI et al.1981; OPT.-MEH. PROM.; ISSN 0030-4042; SUN; DA. 1981; NO 4; PP. 32-34; BIBL. 12 REF.Article

FACTORS AFFECTING FINE LINE REPRODUCTION IN DRY FILM PHOTO RESISTS. IIFULLWOOD L.1982; INSUL., CIRCUITS; ISSN 0020-4544; USA; DA. 1982; VOL. 28; NO 1; PP. 47-49; BIBL. 8 REF.Article

THICK-FILM FINE PATTERN FORMATION BY A PHOTOLITHOGRAPHIC PROCESSWATANABE Y; ARITOMO A; WATANABE K et al.1979; I.E.E.E. TRANS. COMPON. HYBR. MANUFG TECHNOL.; USA; DA. 1979; VOL. 2; NO 4; PP. 428-433; BIBL. 5 REF.Article

ETUDES SUR L'APPLICATION OPTIMALE DE LA LITHOGRAPHIE A PROJECTIONHESSE R; WEILAND E.1979; REV. IENA; DDR; DA. 1979; VOL. 19; NO 2; PP. 78-80; BIBL. 4 REF.Article

TONAL REPRODUCTION VIA UNSCREENED POSITIVE PRINTING PLATESLAWSON LE.1978; J. PHOTOGR. SCI.; GBR; DA. 1978; VOL. 26; NO 3; PP. 111-119Article

EXIGENCES DES UTILISATEURS ET RESULTATS LORS DE LA REALISATION DE MASQUES PILOTES AVEC DES MOTIFS DE TRES GRANDE SURFACE SUR LE PHOTOREPETEUR MONO-OBJECTIF UNIVERSEL UERGARTNER W.1979; REV. IENA; DDR; DA. 1979; VOL. 19; NO 2; PP. 89-92Article

SUBMICRON RESOLUTION PHOTOLITHOGRAPHY BY SPECTRAL SHAPINGVOSHCHENKOV AM; HANSON RC.1982; ELECTRON DEVICE LETTERS; ISSN 0193-8576; USA; DA. 1982; VOL. 3; NO 7; PP. 208-210; BIBL. 7 REF.Article