Performance characteristics of a new high rate magnetron sputtering cathode = Performances d'une nouvelle cathode de pulvérisation à haute puissance à magnétronCLASS, W. H.Thin solid films. 1983, Vol 107, Num 4, pp 379-385, issn 0040-6090Article

Ion sputtering targets electrolytically prepared = Cibles de pulvérisation par ions préparées électrolytiquementJOKIC, T; GONCIC, B.Applied surface science. 1986, Vol 25, Num 1-2, pp 213-216, issn 0169-4332Article

Planarization by radio-frequency bias sputtering of aluminum as studied experimentally and by computer simulation = Aplanissement par pulvérisation haute fréquence de l'aluminium, étudié expérimentalement et par simulation sur ordinateurBADER, H. P; LARDON, M. A.Journal of vacuum science and technology. A. Vacuum, surfaces, and films. 1985, Vol 3, Num 6, pp 2167-2171, issn 0734-2101Article

Composition of magnetron-sputtered aluminum alloy filmsLIU, D. R; NORIAN, K. H.Thin solid films. 1989, Vol 173, Num 1, pp L115-L118, issn 0040-6090Article

An investigation of the sputtering process in the microwave-coupled hollow cathode discharge = Une étude du processus de pulvérisation dans la décharge d'une cathode creuse couplée microondeVIOLANTE, N; SENOFONTE, O; MARCONI, A et al.Canadian journal of spectroscopy. 1988, Vol 33, Num 2, pp 49-55, issn 0045-5105Article

Effect of segregation on preferred sputtering of alloys = Influence de la ségrégation sur la pulvérisation sélective des alliagesITOH, N; MORITA, K.Radiation effects. 1984, Vol 80, Num 3-4, pp 163-182, issn 0033-7579Article

An empirical formula for angular dependence of sputtering yields = Formule empirique pour les rendements de pulvérisation en fonction de l'angle d'incidenceYAMAMURA, Y.Radiation effects. 1984, Vol 8, Num 1-2, pp 57-72, issn 0033-7579Article

Fabrication and structural characterization of metal films coated on cenosphere particles by magnetron sputtering depositionXIAOZHENG YU; ZHIGANG SHEN; ZHENG XU et al.Applied surface science. 2007, Vol 253, Num 17, pp 7082-7088, issn 0169-4332, 7 p.Article

Densitomètre laser pour la mesure d'épaisseur de couches déposées par pulvérisation cathodique = A laser densitometer to measure the thickness of cathode sputtered coatingsCANTELOUP, J; DRIEUX, M.Le Vide, les couches minces. 1982, Num 212, pp 239-242, issn 0223-4335Article

A magnetic ion-separator protecting the cathode of a high-power electron gunHERB, R; HERRMANN, K.-H; NISCH, W et al.Optik (Stuttgart). 1995, Vol 100, Num 4, pp 149-154, issn 0030-4026Article

On the adhesion of nitride coatings on HSS substrates = Adhérence des revêtements de nitrure sur des supports en acier rapideKOPACZ, U; JEHN, H. A.Vacuum. 1986, Vol 36, Num 1-3, pp 81-84, issn 0042-207XArticle

The properties of magnetron sputtered CoNi thin films = Propriétés des films minces de CoNi pulvérisés au magnétronSPENCER, A. G; HOWSON, R. P.Vacuum. 1986, Vol 36, Num 1-3, pp 103-105, issn 0042-207XArticle

Process and engineering benefits of sputter-ion-plated titanium nitride coatings = Procédé et bénéfices technologiques des dépôts ioniques pulvérisés de nitrure de titaneJACOBS, M. H.Surface & coatings technology. 1986, Vol 29, Num 3, pp 221-237, issn 0257-8972Conference Paper

Preparation and characterization of carbon and titanium carbide coatings = Préparation et caractérisation de revêtements de carbone et de carbure de titaneDUA, A. K; GEORGE, V. C; AGARWALA, R. P et al.Thin solid films. 1984, Vol 121, Num 1, pp 35-42, issn 0040-6090Article

REP atomization mechanismusCHAMPAGNE, B; ANGERS, R.PMI. Powder metallurgy international. 1984, Vol 16, Num 3, pp 125-128, issn 0048-5012Article

THE EFFECTS OF GAS COMPOSITION ON DISCHARGE AND DEPOSITION CHARACTERISTICS WHEN MAGNETRON SPUTTERING ALUMINIUM = EFFETS DE LA COMPOSITION DU GAZ SUR LA DECHARGE ET LES CARACTERISTIQUES DE DEPOT LORS DE LA PULVERISATION D'ALUMINIUM DANS UN MAGNETRONNYAIESH AR; HOLLAND L.1981; VACUUM; ISSN 0042-207X; GBR; DA. 1981; VOL. 31; NO 8-9; PP. 371-375; BIBL. 12 REF.Article

Low temperature deposition of tribological coatings = Dépôt à basse température de revêtements tribologiquesPRATER, J. T.Surface & coatings technology. 1986, Vol 29, Num 3, pp 247-257, issn 0257-8972Conference Paper

Primary Ar⁺ ion bombardment effect on Ni-Fe film composition formed by ion beam sputteringNAGAI, Y; NISHIMURA, C; TOSHIMA, T et al.Journal of vacuum science and technology. A. Vacuum, surfaces, and films. 1985, Vol 3, Num 6, pp 2147-2151, issn 0734-2101Article

Etching characteristics of steel by reactive sputter etching = Caractéristiques de l'attaque d'un acier par pulvérisation réactiveYUHTA, T; NAKAJIMA, M; SATOH, T et al.Bulletin of the Japan Society of Precision Engineering. 1983, Vol 17, Num 1, pp 57-58, issn 0582-4206Article

Extremely high corrosion resistance in amorphous Cr-B alloys = Grande résistance à la corrosion des alliages amorphes Cr-BRUF, R. R; TSUEI, C. C.Journal of applied physics. 1983, Vol 54, Num 10, pp 5705-5710, issn 0021-8979Article

Comportement en frottement d'une couche autolubrifiante. Influence de l'environnement = Rubbing behaviour of a selflubricating layer. Effect of environmentMONTES, H; KERBAGE, O; BRISSOT, J et al.Applications of surface science. 1983, Vol 1N2, pp 249-257, issn 0378-5963Article

HIGH PURITY SPUTTERED TRIBOLOGICAL COATINGS = REVETEMENTS TRIBOLOGIQUES DE HAUTE PURETE DEPOSES PAR PROJECTIONDUCKWORTH RG.1981; THIN SOLID FILMS; ISSN 0040-6090; CHE; DA. 1981; VOL. 86; NO 2-3; PP. 213-218; BIBL. 9 REF.Conference Paper

Structure and arrangement of carbon microparticles of electrodes during fullerene synthesis in inert gases (Ar, He)BELOV, N. N; SIMANCHEV, S. K; TOKAREVSKIKH, A. V et al.Fullerene science and technology. 1997, Vol 5, Num 7, pp 1449-1460, issn 1064-122XArticle

Influence de différents paramètres de dépôt sur la teneur en aluminium de revêtements d'alliages obtenus par pulvérisation cathodique = Effect of various coating parameters on the amount of Al in alloy coatings obtained by cathode sputteringINDRIGO, C; DURET, C.Le Vide, les couches minces. 1982, Num 212, pp 201-206, issn 0223-4335Article

Effect of annealing on the mechanical and scratch properties of BCN films obtained by magnetron sputtering depositionSHUYAN XU; XINXIN MA; HUIYING WEN et al.Applied surface science. 2014, Vol 313, pp 823-827, issn 0169-4332, 5 p.Article