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Medium temperature CVD for coating steel parts = Dépôt chimique en phase vapeur à température moyenne pour le revêtement des parties en acierCHATTERJEE-FISCHER, R; MAYR, P.Metal progress. 1986, Vol 129, Num 2, pp 35-43, issn 0026-0665Article

Anticorrosion et anti-usure des pièces mécaniques = Corrosion and wear resistance of mechanical partsPOURPRIX, Y.Galvano organo traitements de surface. 1986, Vol 55, Num 566, pp 341-342, issn 0982-7870Article

Chemical vapour deposition of silicon carbide and its applications = Dépôt chimique en phase vapeur de carbure de silicium, et ses applicationsBRÜTSCH, R.Thin solid films. 1985, Vol 126, Num 3-4, pp 313-318, issn 0040-6090Article

Dépôts chimiques à partir d'une phase gazeuse = Chemical vapor depositionAUDISIO, S.Métallurgie. sd, pp 1-12Book Chapter

Métallisation par CVD assistée par laser = Metal plating by laser aided chemical vapor depositionRODOT, M; BOUREE, J. E.Le Vide, les couches minces. 1985, Vol 40, Num 227, pp 339-343, issn 0223-4335Conference Paper

Propriétés de traction du molybdène revêtu avec du carbure de titane et/ou du nitrure de titane préparé par dépôt chimique en phase vapeurSHIKAMA, T; FUJITSUKA, M; FUKUTOMI, M et al.Nippon Kinzoku Gakkaishi (1952). 1984, Vol 48, Num 11, pp 1053-1060, issn 0021-4876Article

La protection des surfaces par dépôt chimique en phase vapeur = Surface protection by chemical vapour depositionWelding in the world. 1983, Vol 21, Num 11-12, pp 316-327, issn 0043-2288Article

Les perspectives du traitement ionique = Future of ionic treatmentMICHEL, H.Traitement thermique (Paris). 1983, Num 179, pp 41-48, issn 0041-0950Article

Chemical vapor deposition in microelectronics = Dépôt chimique en phase vapeur en microélectroniqueKURNIK, R. T.Chemical engineering progress. 1985, Vol 81, Num 5, pp 30-35, issn 0360-7275Article

Analysis of the deoxidation process of copper with manganese using a platinum electrode-based sensor prepared by MOCVDGONZALEZ-LOPEZ, S; ROMERO-SERRANO, A; VARGAS-GARCIA, R et al.Revista de metalurgia (Madrid). 2010, Vol 46, Num 3, pp 219-226, issn 0034-8570, 8 p.Article

Dépôt sélectif de films d'anatase, de rutile et de brookite, par décomposition en phase vapeur d'alkyl titanatesTAKAHASHI, Y; WAKAYAMA, S; OGISO, A et al.Kinzoku Hyomen Gijutsu. 1984, Vol 35, Num 2, pp 584-599, issn 0026-0614Article

Rivestimenti CVD: recenti risultati sui vantaggi degli utensili per estrusione e taglio rivestiti = Dépôts chimiques en phase vapeur: nouveaux résultats sur les avantages des appareils d'extrusion et les outils de coupe revêtus = Chemical vapor deposition coatings: new results on extrusion tools and HSS toolsLAMBERTI, C; RABEZZANA, F.Metallurgia Italiana. 1984, Vol 76, Num 10, pp 437-441, issn 0026-0843Article

Les dépôts chimiques à partir d'une phase gazeuse: exemples de réalisations = Chemical vapor deposition: examples of realizationsAUDISIO, S; MAZILLE, H.Le Vide, les couches minces. 1986, Num 232, pp 39-45, issn 0223-4335Conference Paper

Kinetics and mechanism of selective tungsten deposition by LPCVD = Cinétique et mécanique du dépôt sélectif du tungstène par dépôt chimique en phase vapeur à basse pressionPAULEAU, Y; LAMI, P.Journal of the Electrochemical Society. 1985, Vol 132, Num 11, pp 2779-2784, issn 0013-4651Article

The effect of thermochemical treatments on the mechanical properties of tool steel. II = Influence des traitements thermochimiques sur les propriétés mécaniques des aciers à outils. IICHILD, H. C.Materials & design. 1983, Vol 4, Num 2, pp 716-722, issn 0264-1275Article

Applications and trends in plasma-enhanced organometallic chemical vapour depositionSUHR, H.Surface & coatings technology. 1991, Vol 49, Num 1-3, pp 233-238, issn 0257-8972Conference Paper

Low temperature growth of highly purified diamond films using microwave plasma-assisted chemical vapour depositionMURANAKA, Y; YAMASHITA, H; MIYADERA, H et al.Surface & coatings technology. 1991, Vol 47, Num 1-3, pp 1-12, issn 0257-8972Conference Paper

Real time monitoring of filament-assisted chemically vapor deposited diamond by spectroscopic ellipsometryCONG, Y; AN, I; NGUYEN, H. V et al.Surface & coatings technology. 1991, Vol 49, Num 1-3, pp 381-386, issn 0257-8972Conference Paper

Relationship between emission spectroscopy and structural properties of diamond films synthetized by plasma-assisted chemical vapor depositionMARCUS, B; MERMOUX, M; VINET, F et al.Surface & coatings technology. 1991, Vol 47, Num 1-3, pp 608-617, issn 0257-8972Conference Paper

Corrosion behaviour and protective quality of TiN coatings = Comportement à la corrosion et qualité protectrice de revétements de TiNMÄNTYLÄ, T. A; HELEVIRTA, P. J; LEPISTÖ, T. T et al.Thin solid films. 1985, Vol 126, Num 3-4, pp 275-281, issn 0040-6090Article

Diffusion of cobalt into a TiC layer during chemical vapour deposition and its effects on the cutting performance of TiC/Al2O3-coated cemented carbides = Diffusion du cobalt dans une couche de TiC au cours du dépôt chimique en phase vapeur, et son effet sur l'efficacité de coupe des carbures frittés revêtus de TiC/Al2O3TAKATSU, S; SHIBUKI, K.Thin solid films. 1985, Vol 127, Num 3-4, pp 283-292, issn 0040-6090Article

Etude d'un profil d'épaisseur d'un dépôt de bore à l'intérieur d'une cavité cylindrique et entre deux disques parallèles = Study of the thickness profile of a boron deposit within a cylindrical cavity and between two parallel wafersARMAS, B; COMBESCURE, C; DIAZ-SALGADO, C et al.Revue internationale des hautes températures et des réfractaires. 1985, Vol 22, Num 2, pp 61-69, issn 0035-3434Article

Ricerche e risultati nell' impiego di creatori in acciaio rapido rivestito con sistema PVD e CVD = Recherches et résultats d'utilisation des outils en acier rapide revêtus par dépôt physique en phase vapeur et dépôt chimique en phase vapeur = Study and results in the use of HSS hobs coated by PVD and CVD processLAUDATO, A; FRANCHI, D.Metallurgia Italiana. 1984, Vol 76, Num 10, pp 428-431, issn 0026-0843Article

Micro-jet plasma CVD with HMDSO/O2SILMY, K; HOLLÄNDER, A; DILLMANN, A et al.Surface & coatings technology. 2005, Vol 200, Num 1-4, pp 368-371, issn 0257-8972, 4 p.Conference Paper

UHV chemical vapour deposition of silicon nanowiresSCHMIDT, Volker; SENZ, Stephan; GÖSELE, Ulrich et al.Zeitschrift für Metallkunde. 2005, Vol 96, Num 5, pp 427-428, issn 0044-3093, 2 p.Conference Paper

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