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Chemical vapour deposition of silicon carbide and its applications = Dépôt chimique en phase vapeur de carbure de silicium, et ses applicationsBRÜTSCH, R.Thin solid films. 1985, Vol 126, Num 3-4, pp 313-318, issn 0040-6090Article

Dépôts chimiques à partir d'une phase gazeuse = Chemical vapor depositionAUDISIO, S.Métallurgie. sd, pp 1-12Book Chapter

Métallisation par CVD assistée par laser = Metal plating by laser aided chemical vapor depositionRODOT, M; BOUREE, J. E.Le Vide, les couches minces. 1985, Vol 40, Num 227, pp 339-343, issn 0223-4335Conference Paper

Propriétés de traction du molybdène revêtu avec du carbure de titane et/ou du nitrure de titane préparé par dépôt chimique en phase vapeurSHIKAMA, T; FUJITSUKA, M; FUKUTOMI, M et al.Nippon Kinzoku Gakkaishi (1952). 1984, Vol 48, Num 11, pp 1053-1060, issn 0021-4876Article

La protection des surfaces par dépôt chimique en phase vapeur = Surface protection by chemical vapour depositionWelding in the world. 1983, Vol 21, Num 11-12, pp 316-327, issn 0043-2288Article

Les perspectives du traitement ionique = Future of ionic treatmentMICHEL, H.Traitement thermique (Paris). 1983, Num 179, pp 41-48, issn 0041-0950Article

Chemical vapor deposition in microelectronics = Dépôt chimique en phase vapeur en microélectroniqueKURNIK, R. T.Chemical engineering progress. 1985, Vol 81, Num 5, pp 30-35, issn 0360-7275Article

Analysis of the deoxidation process of copper with manganese using a platinum electrode-based sensor prepared by MOCVDGONZALEZ-LOPEZ, S; ROMERO-SERRANO, A; VARGAS-GARCIA, R et al.Revista de metalurgia (Madrid). 2010, Vol 46, Num 3, pp 219-226, issn 0034-8570, 8 p.Article

Dépôt sélectif de films d'anatase, de rutile et de brookite, par décomposition en phase vapeur d'alkyl titanatesTAKAHASHI, Y; WAKAYAMA, S; OGISO, A et al.Kinzoku Hyomen Gijutsu. 1984, Vol 35, Num 2, pp 584-599, issn 0026-0614Article

Rivestimenti CVD: recenti risultati sui vantaggi degli utensili per estrusione e taglio rivestiti = Dépôts chimiques en phase vapeur: nouveaux résultats sur les avantages des appareils d'extrusion et les outils de coupe revêtus = Chemical vapor deposition coatings: new results on extrusion tools and HSS toolsLAMBERTI, C; RABEZZANA, F.Metallurgia Italiana. 1984, Vol 76, Num 10, pp 437-441, issn 0026-0843Article

Micro-jet plasma CVD with HMDSO/O₂SILMY, K; HOLLÄNDER, A; DILLMANN, A et al.Surface & coatings technology. 2005, Vol 200, Num 1-4, pp 368-371, issn 0257-8972, 4 p.Conference Paper

UHV chemical vapour deposition of silicon nanowiresSCHMIDT, Volker; SENZ, Stephan; GÖSELE, Ulrich et al.Zeitschrift für Metallkunde. 2005, Vol 96, Num 5, pp 427-428, issn 0044-3093, 2 p.Conference Paper

Friction of diamond on diamond and chemical vapour deposition diamond coatingsFENG, Z; FIELD, J. E.Surface & coatings technology. 1991, Vol 47, Num 1-3, pp 631-645, issn 0257-8972Conference Paper

Investigation of diamond growth in a new planar microwave plasma sourceOHL, A; SCHMIDT, M.Surface & coatings technology. 1991, Vol 47, Num 1-3, pp 29-38, issn 0257-8972Conference Paper

Physical properties of plasma-enhanced chemically vapour deposited hydrogenated and nitrogenated amorphous carbonsRICCI, M; TRINQUECOSTE, M; DELHAES, P et al.Surface & coatings technology. 1991, Vol 47, Num 1-3, pp 299-307, issn 0257-8972Conference Paper

Thermal chemical vapour deposition of homoepitaxial diamond : dependence of surface morphology and defect structure on substrate orientationVAN ENCKEVORT, W. J. P; JANSSEN, G; VOLLENBERG, W et al.Surface & coatings technology. 1991, Vol 47, Num 1-3, pp 39-50, issn 0257-8972Conference Paper

Gold crystal growth by photothermal laser-induced chemical vapor deposition = Croissance cristalline de l'or par dépôt en phase vapeur chimique induit par laser photothermiqueKODAS, T. T; BAUM, T. H; COMITA, P. B et al.Journal of crystal growth. 1988, Vol 87, Num 2-3, pp 378-382, issn 0022-0248Article

Plasma-enhanced chemical vapor deposition of molybdenum = Dépôt chimique en phase vapeur de molybdène accru par plasmaIANNO, N. J; PLASTER, J. A.Thin solid films. 1987, Vol 147, Num 2, pp 193-202, issn 0040-6090Article

Alternative processes and treatments = Autres procédés et traitementsRESTALL, J. E; WOOD, M. I.Materials science and technology. 1986, Vol 2, Num 3, pp 225-231, issn 0267-0836Article

Vapour deposition of engineering coatings = Dépôt en phase vapeur des revêtements technologiquesEDWARDS, J.Transactions of the Institute of Metal Finishing. 1986, Vol 64, Num 4, pp 17-23, issn 0020-2967Article

CVD-Beschichtung bei Mitteltemperaturen = PVC coating at medium temperaturesMATHESIUS, H.A; BONETTI, R.Industrie-Anzeiger. 1985, Vol 107, Num 31, pp 36-38, issn 0019-9036Article

Structure and properties of coatings composed of TiN-Ti obtained by the reactive pulse plasma method = Structure et propriétés des revêtements composés de TiN-Ti obtenus par la méthode de plasma réactif pulséMICHALSKI, A.Journal of materials science letters. 1984, Vol 3, Num 6, pp 505-508, issn 0261-8028Article

Etude expérimentale de la macrocinétique de la déposition chimique du bore à partir de la phase gazeuse sur un support chaufféTSIRLIN, A. M; FEDOROVA, T. V; FLORINA, E. K et al.Fizika i himiâ obrabotki materialov. 1984, Num 3, pp 99-107, issn 0015-3214Article

Low temperature MOCVD process for fast aluminium deposition on metallic substratesAGüERO, A; GARCIA, M; GUTIERREZ, M et al.Materials and corrosion (1995). 2005, Vol 56, Num 12, pp 937-941, issn 0947-5117, 5 p.Article