MOLEKULARSTRAHL-EPITAXIE VON SILIZIUM = L'EPITAXIE DU SILICIUM PAR FAISCEAU MOLECULAIREKASPER E.1979; WISSENSCH. BER. A.E.G.-TELEFUNKEN; DEU; DA. 1979; VOL. 52; NO 1-2; PP. 147-155; ABS. ENG; BIBL. 19 REF.Article

NIEDRIGTEMPERATUR-EPITAXIE VON SILICIUM MIT MOLEKULARSTRAHL-EPITAXIE (MBE) = EPITAXIE A BASSE TEMPERATURE DU SILICIUM PAR EPITAXIE PAR FAISCEAU MOLECULAIREKASPER E.1980; WISS. BER.-AEG-TELEFUNKEN; ISSN 0043-6801; DEU; DA. 1980 PUBL. 1981; VOL. 53; NO 4-5; PP. 170-176; ABS. ENG; BIBL. 12 REF.Article

FIELD ELECTRON EMISSION SYSTEMSKASPER E.1982; ADV. OPT. ELECTRON MICROSC.; ISSN 0065-3012; GBR; DA. 1982; VOL. 8; PP. 207-260; BIBL. 3 P.Article

ON THE NUMERICAL CALCULATION OF STATIC MULTIPOLE FIELDS.KASPER E.1976; OPTIK; DTSCH.; DA. 1976; VOL. 46; NO 3; PP. 271-286; ABS. ALLEM.; BIBL. 6 REF.Article

MAGNETIC FIELD CALCULATION AND THE DETERMINATION OF ELECTRON TRAJECTORIESKASPER E.1982; TOP. CURR. PHYS.; ISSN 0342-6793; DEU; DA. 1982; VOL. 18; PP. 58-118; BIBL. 90 REF.Article

ON THE NUMERICAL FIELD CALCULATION IN FIELD EMISSION DEVICESKASPER E.1979; OPTIK; DEU; DA. 1979; VOL. 54; NO 2; PP. 135-147; ABS. GER; BIBL. 9 REF.Article

ON ATTEMPTS TO INTERPRET THE ELECTRON OPTICAL PHASE SHIFT BY THE BOHM-AHARANOV EFFECT ON A PURELY CLASSICAL BASIS.KASPER E.1975; OPTIK; DTSCH.; DA. 1975; VOL. 42; NO 4; PP. 367-374; ABS. ALLEM.; BIBL. 5 REF.Article

On the numerical determination of electron optical focusing properties and aberrationsKASPER, E.Optik (Stuttgart). 1985, Vol 69, Num 3, pp 117-125, issn 0030-4026Article

Improvements of methods for electron optical field calculationsKASPER, E.Optik (Stuttgart). 1984, Vol 68, Num 4, pp 341-362, issn 0030-4026Article

Neue elektronische und optische Eigenschaften:Uebergitterstruktur auf Siliziumsubstrat = New electronical and optical properties of a superlattice on silicon substratumKASPER, E.Industrie-Anzeiger. 1986, Vol 108, Num 98, issn 0019-9036, 28-29, 30Article

PROFILING OF SIGE SUPERLATTICES BY HE BACKSCATTERING.KASPER E; PABST W.1976; THIN SOLID FILMS; NETHERL.; DA. 1976; VOL. 37; NO 1; PP. L5-L7; BIBL. 15 REF.Article

PROGRESSINDUZIERTE VERSETZUNGEN IN OXIDIERTEN SILICIUM-SCHEIBEN. = LES DISLOCATIONS DUES AU TRAITEMENT THERMIQUE DANS LES DISQUES DE SILICIUM OXYDESKASPER E; CLAUSS H.1975; WISSENSCH. BER. A.E.G.-TELEFUNKEN; DTSCH.; DA. 1975; VOL. 48; NO 5; PP. 183-189; ABS. ANGL.; BIBL. 14 REF.Article

An advanced method for the direct calculation of electron optical aberration discsKASPER, E.Optik (Stuttgart). 1991, Vol 89, Num 1, pp 23-30, issn 0030-4026Article

An advanced method of field calculation in electron optical systems with axisymmetric boundariesKASPER, E.Optik (Stuttgart). 1987, Vol 77, Num 1, pp 3-12, issn 0030-4026Article

Mit Uebergitterstrukturen zu neuen Eigenschaften von Halbleitern = With superlattice to new characteristics of semi conductorsKASPER, E.Technische Rundschau. 1986, Vol 78, Num 49, issn 0040-148X, 66-69, 71Article

ON THE ANALYTICAL CALCULATION OF FIELDS IN ELECTRON OPTICAL DEVICESKASPER E; SCHERLE W.1982; OPTIK (STUTTG.); ISSN 0030-4026; DEU; DA. 1982; VOL. 60; NO 4; PP. 339-352; ABS. GER; BIBL. 6 REF.Article

EINE INDIKATION ZUR EXTRATHORAKALEN UNTERDRUCKBEATMUNG IN DER "EISERNEN LUNGE" = UNE INDICATION A LA VENTILATION A BASSE PRESSION EXTRATHORACIQUE DANS LE POUMON D'ACIERKASPER E; KIRSCH G.1975; DTSCHE GESUNDH.-WES.; DTSCH.; DA. 1975; VOL. 30; NO 28; PP. 1326-1329; ABS. RUSSE ANGL.; BIBL. 16 REF.Article

ZUR NUMERISCHEN BERECHNUNG ELEKTROMAGNETISCHER MULTIPOLFELDER. = SUR LE CALCUL NUMERIQUE DE CHAMPS MULTIPOLAIRES ELECTROMAGNETIQUESSCHWERTFEGER W; KASPER E.1974; OPTIK; DTSCH.; DA. 1974; VOL. 41; NO 2; PP. 160-173; ABS. ANGL.; BIBL. 5 REF.Article

UHV-EPITAXIE VON SI UND SIGE AUF SI-SUBSTRATEN. = LE DEPOT PAR EPITAXIE DANS L'ULTRA-VIDE DE SI ET SIGE SUR DES SUBSTRATS DE SIKASPER E; HERZOG HJ.1976; WISSENSCH. BER. A.E.G.-TELEFUNKEN; DTSCH.; DA. 1976; VOL. 49; NO 6; PP. 213-228; ABS. ANGL.; BIBL. 103 REF.Article

SI-MBE: GROWTH AND SB DOPINGKONIG U; KIBBEL H; KASPER E et al.1979; J. VAC. SCI. TECHNOL.; ISSN 0022-5355; USA; DA. 1979; VOL. 16; NO 4; PP. 985-989; BIBL. 27 REF.Article

DARSTELLUNG STATIONAERER ROTATIONSSYMMETRISCHER ELEKTROMAGNETISCHER FELDER DURCH SUPERPOSITION VON LOCHBLENDEN- UND KREISRINGFELDERN. = LA REPRESENTATION DE CHAMPS ELECTROMAGNETIQUES STATIONNAIRES A SYSMETRIE DE ROTATION PAR LA SURIMPOSITION DES CHAMPS D'OUVERTURES CIRCULAIRES COAXIALES ET D'ANNEAUX CHARGESHOCH H; KASPER E; KERN D et al.1978; OPTIK; DTSCH.; DA. 1978; VOL. 50; NO 5; PP. 413-425; ABS. ANGL.; BIBL. 8 REF.Article

Silicon layers grown by differential molecular beam epitaxyHERZOG, H.-J; KASPER, E.Journal of the Electrochemical Society. 1985, Vol 132, Num 9, pp 2227-2231, issn 0013-4651Article

Industrial aspects of silicon molecular beam epitaxyKIBBEL, H; KASPER, E.Vacuum. 1990, Vol 41, Num 4-6, pp 929-932, issn 0042-207X, 4 p.Conference Paper

High speed integrated circuit using silicon molecular beam epitaxy (Si-MBE)KASPER, E; WÖRNER, K.Journal of the Electrochemical Society. 1985, Vol 132, Num 10, pp 2481-2486, issn 0013-4651Article

Moderne Alterungsöfen im Presswerk Ranshofen : The international extrusion industry 1999 = Modern ageing furnaces at the Ranshofen extrusion plantGRÜNDL, M; KASPER, E.Aluminium (Düsseldorf). 1999, Vol 75, Num 4, pp 248-253, issn 0002-6689, 5 p.Article