SMALL-ANGLE DIFFUSING SCREENS FOR PHOTOLITHOGRAPHIC CAMERA ILLUMINATION SYSTEMSKING MC; BERRY DH.1972; APPL. OPT.; U.S.A.; DA. 1972; VOL. 11; NO 11; PP. 2460-2462; BIBL. 2 REF.Serial Issue

THE IMPACT OF PHOTORESIST ON IMAGE SIZEROTTMAN HR.1982; J. APPL. PHOTOGR. ENG.; ISSN 0098-7298; USA; DA. 1982; VOL. 8; NO 2; PP. 101-104; BIBL. 1 REF.Article

LASER IMAGING OF ELECTRONIC CIRCUITRY: AN ALTERNATIVE TO THE PHOTOMASK PROCESS1981; INSUL., CIRCUITS; ISSN 0020-4544; USA; DA. 1981; VOL. 27; NO 10; PP. 112Article

RECTANGULAR-PROFILE DIFFRACTION GRATING FROM SINGLE-CRYSTAL SILICONJOSSE M; KENDALL DL.1980; APPL. OPT.; USA; DA. 1980; VOL. 19; NO 1; PP. 72-76; BIBL. 11 REF.Article

FABRICATION TECHNIQUES FOR MICRODEVICES IN SOFT SUPERCONDUCTORSBERCHIER JL; SANCHEZ DH.1978; REV. SCI. INSTRUM.; USA; DA. 1978; VOL. 49; NO 10; PP. 1452-1459; BIBL. 34 REF.Article

TRENDS IN SEMICONDUCTOR PHOTOLITHOGRAPHY.MARKSTEIN HW.1977; ELECTRON. PACKAG. PRODUCT.; U.S.A.; DA. 1977; VOL. 17; NO 3; PP. 25-33 (6P.); BIBL. 2 REF.Article

FABRICATION OF BUBBLE MEMORY CHIPS.TAKAHASHI M; NISHIDA H; KASAI T et al.1974; I.E.E.E. TRANS. MAGNET.; U.S.A.; DA. 1974; VOL. 10; NO 4; PP. 1067-1071; BIBL. 5 REF.Article

OPTICAL LIMITATION IN FINE PATTERN PHOTOLITHOGRAPHY.WADA Y; UEHARA K.1974; JAP. J. APPL. PHYS.; JAP.; DA. 1974; VOL. 13; NO 12; PP. 2014-2018; BIBL. 9 REF.Article

PHOTOLITHOGRAPHIC MASK ALIGNMENT USING MOIRE TECHNIQUESKING MC; BERRY DH.1972; APPL. OPT.; U.S.A.; DA. 1972; VOL. 11; NO 11; PP. 2455-2459; BIBL. 7 REF.Serial Issue

OPTICAL LITHOGRAPHY: THE IMPLICATIONS OF THE ELECTROMAGNETIC FIELD THEORYVAN DEN BERG HAM; VAN DEN BERG PM.1981; IEEE TRANS. ELECTRON DEVICES; ISSN 0018-9383; USA; DA. 1981; VOL. 28; NO 12; PP. 1535-1543; BIBL. 25 REF.Article

OBJECTIFS POUR LA PHOTOLITHOGRAVURE DE PROJECTIONGRAMMATIN AP; LARINA RM; GORBUNOVA VA et al.1976; OPT.-MEKH. PROMYSHL.; S.S.S.R.; DA. 1976; NO 11; PP. 60-69; BIBL. 26 REF.Article

PRACTICAL AUTOMATION FOR PHOTOLITHOGRAPHIC WAFER PROCESSING.HARRELL S.1974; SOLID STATE TECHNOL.; U.S.A.; DA. 1974; VOL. 17; NO 8; PP. 47-49; BIBL. 1 REF.Article

THE SEMICONDUCTOR IN MANUFACTURECLARK KG.1972; MICROELECTRONICS; G.B.; DA. 1972; VOL. 4; NO 3; PP. 31-36Serial Issue

KOSTENOPTIMIERUNG BEIM VERSCHLEISSMATERIAL AM BEISPIEL DER SCHABLONENNUTZUNG IN DER FOTOLITHOGRAFIE = L'OPTIMALISATION DES FRAIS DU MATERIEL D'USURE PRESENTEE A L'EXEMPLE DE L'UTILISATION DE MASQUES DANS LA PHOTOLITHOGRAPHIEBALARIN M.1982; NACHRICHTENTECHNIK. ELEKTRONIK; ISSN 0323-4657; DDR; DA. 1982; VOL. 32; NO 12; PP. 490-494; BIBL. 2 REF.Article

BELEUCHTUNGSOPTIK IN FOTOLITHOGRAPHISCHEN BELICHTUNGSEINHEITEN = SYSTEME OPTIQUE D'ECLAIRAGE DANS LES DISPOSITIFS D'EXPOSITION EN PHOTOLITHOGRAPHIELEIPOLD H; SYMANOWSKI C.1980; FEINGERAETETECHNIK; ISSN 0014-9683; DDR; DA. 1980; VOL. 29; NO 12; PP. 561-564; ABS. ENG/FRE; BIBL. 6 REF.Article

SINGLE-STEP OPTICAL LIFT-OFF PROCESSHATZAKIS M; CANAVELLO BS; SHAW JM et al.1980; IBM J. RES. DEVELOP.; ISSN 0018-8646; USA; DA. 1980; VOL. 24; NO 4; PP. 452-460; BIBL. 19 REF.Article

UV EXPOSURE SYSTEMS FOR PRINTED CIRCUIT MANUFACTURE.1978; CIRCUITS MANUF.; U.S.A.; DA. 1978; VOL. 18; NO 5; PP. 45-48Article

RESINE PHOTOSENSIBLE NEGATIVE A BASE DE PLEINOMERES DE CYCLOHEXADIENE-1,3 POUR L'OBTENTION DE RESEAUX OPTIQUES ET D'ECHELLES PAR UNE METHODE DE PHOTOLITHOGRAPHIENAUMOVA SF; FLEJSHER AI; YURINA O YU et al.1978; OPT.-MEKH. PROMYSHL.; S.S.S.R.; DA. 1978; VOL. 45; NO 2; PP. 40-41; BIBL. 5 REF.Article

NEW GUNN-EFFECT THREE-TERMINAL PLUSE REGENERATOR BY PLANAR PHOTOLITHOGRAPHY.HARIU T; HARTNAGEL HL.1974; INTERNATION. J. ELECTRON.; G.B.; DA. 1974; VOL. 37; NO 4; PP. 451-455; BIBL. 3 REF.Article

LES PHOTOCOPIEURS ET LA TECHNIQUE DES CIRCUITS IMPRIMESGUEULLE P.1980; ELECTRON. APPL.; FRA; DA. 1980; NO 13; PP. 75-78Article

AUTOMATISCHER NEUNFACHREPEATER ANR₄ DES VEB CARL ZEISS JENA-EIN PHOTOLITHOGRAPHISCHES PRAEZISIONSGERAET FUER DIE HALBLEITERINDUSTRIE. = APPAREIL DE REPRODUCTION AUTOMATIQUE A NEUF FORMATS DE LA FIRME VEB CARL ZEISS JENA. UN APPAREIL PHOTOLITHOGRAPHIQUE DE PRECISION POUR L'INDUSTRIE DES SEMICONDUCTEURSMICHL U; NESTLER K.1976; BILD U. TON; DTSCH.; DA. 1976; VOL. 29; NO 1; PP. 11-15Article

EXIGENCES DES UTILISATEURS ET RESULTATS LORS DE LA REALISATION DE MASQUES PILOTES AVEC DES MOTIFS DE TRES GRANDE SURFACE SUR LE PHOTOREPETEUR MONO-OBJECTIF UNIVERSEL UERGARTNER W.1979; REV. IENA; DDR; DA. 1979; VOL. 19; NO 2; PP. 89-92Article

OPTICAL LITHOGRAPHY.DILL FH.1975; I.E.E.E. TRANS. ELECTRON DEVICES; U.S.A.; DA. 1975; VOL. 22; NO 7; PP. 440-444; BIBL. 6 REF.Article

A 30 MHZ FILTER BASED ON ACOUSTIC SURFACE WAVESDANICKI E.1972; BULL. ACAD. POLON. SCI., SCI. TECH.; POLOGNE; DA. 1972; VOL. 20; NO 4; PP. 289-295; ABS. RUSSE; BIBL. 5 REF.Serial Issue

BEDEUTUNG DER POLYCHROMATISCHEN PROJEKTIONSFOTOLITHOGRAPHIE = SIGNIFICATION DE LA PHOTOLITHOGRAPHIE PAR PROJECTION POLYCHROMATIQUEBAUER J; WAGNER R.1981; FEINGERAETETECHNIK; ISSN 0014-9683; DDR; DA. 1981; VOL. 30; NO 10; PP. 457-461; BIBL. 24 REF.Article