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AUFBAU UND VERHALTEN VON VOLLFLAECHENDIODEN ZUR PRUEFUNG FOTOLITHOGRAFISCHER HOCHLEISTUNGSOBJEKTIVE = CONSTRUCTION ET COMPORTEMENT DE DIODES A JONCTIONS MULTIPLES POUR L'ESSAI D'OBJECTIFS PHOTOLITHOGRAPHIQUES A HAUTES PERFORMANCESNEHLER HJ.1982; FEINGERAETETECHNIK; ISSN 0014-9683; DDR; DA. 1982; VOL. 31; NO 11; PP. 494-496; ABS. ENG/FRE/RUS; BIBL. 15 REF.Article

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Photomask and next-generation lithography mask technology XIII (18-20 April, 2006, Yokohama, Japan)Hoga, Morihisa.Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering. 2006, issn 0277-786X, isbn 0-8194-6358-2, 2 vol, isbn 0-8194-6358-2Conference Proceedings

Messtechnische Erfassung der Bildleistung photolithographischer Objektive durch Wellenflächenanalyse = Estimation métrologique des performances image en photolithogravure par analyse du front d'onde = Metrological assessment of the imaging performance of photolithographic objectives by wave front analysisFREITAG, W; GROSSMANN, W; GRUNEWALD, U et al.Experimentelle Technik der Physik. 1988, Vol 36, Num 6, pp 417-428, issn 0014-4924Article

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