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Thermisches Verhalten von MOS-Strukturen im Temperaturbereich von 77 K bis 423 K = Comportement thermique des structures MOS dans l'intervalle 77 K à 423 K = Thermal behaviour of MOS-structures between 77 and 423 KFÖRSTE, T.Wissenschaftliche Zeitschrift der Technischen Universität Dresden. 1985, Vol 34, Num 4, pp 121-124, issn 0043-6925Article

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