Recherche par classification

• 001 Sciences exactes et technologie.
  • 001B Physique.
    • 001B80 Domaines interdisciplinaires: science des materiaux; rheologie. (voir aussi 001D10, 001D09, 001D08B)
      • 001B80A Science des matériaux. (voir aussi 001B60D, 001B60B)
        • 001B80A15 Méthodes de dépôt de films et de revêtements; croissance de films et épitaxie.
          • 001B80A15A Théorie et modèles de la croissance de films.
          • 001B80A15C Depôt par pulvérisation cathodique.
          • 001B80A15E Dépôt sous vide.
          • 001B80A15F Dépôt par faisceau laser.
          • 001B80A15G Dépôt chimique en phase vapeur (incluant le CVD activé par plasma, MOCVD, etc.).
          • 001B80A15H Epitaxie par faisceaux chimiques, ioniques, atomiques et moléculaires.
          • 001B80A15J Dépôt assisté par faisceaux électroniques et ioniques; placage ionique.
          • 001B80A15K Epitaxie en phase vapeur; croissance en phase vapeur.
          • 001B80A15L Epitaxie en phase liquide; dépôt en phase liquide (phases fondues, solutions et couches superficielles sur des liquides). (voir aussi 001C01I08, 001B60H18)
          • 001B80A15N Epitaxie en phase solide; croissance en phase solide.
          • 001B80A15P Electrodépôt.
          • 001B80A15R Techniques de revêtement par pulvérisation.

Intitulés

• fr : Méthodes de dépôt de films et de revêtements; croissance de films et épitaxie.
• en : Methods of deposition of films and coatings; film growth and epitaxy.

Note d'application

• Structure des couches minces, voir: 001B60H55.
• Structure of thin films, see: 001B60H55.

Notation SKOS

001B80A15

Dans le plan

Plan de Classement Pascal