Bases bibliographiques Pascal et Francis

Recherche par classification

001B80A15G Dépôt chimique en phase vapeur (incluant le CVD activé par plasma, MOCVD, etc.).

  • 001 Sciences exactes et technologie.
    • 001B Physique.
      • 001B80 Domaines interdisciplinaires: science des materiaux; rheologie. (voir aussi 001D10, 001D09, 001D08B)
        • 001B80A Science des matériaux. (voir aussi 001B60D, 001B60B)
          • 001B80A15 Méthodes de dépôt de films et de revêtements; croissance de films et épitaxie.
            • 001B80A15G Dépôt chimique en phase vapeur (incluant le CVD activé par plasma, MOCVD, etc.).

Intitulés

  • en : Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced CVD, MOCVD, etc.).
  • fr : Dépôt chimique en phase vapeur (incluant le CVD activé par plasma, MOCVD, etc.).

Notation SKOS

001B80A15G

Dans le plan

Plan de Classement Pascal