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Effect of Mo-W Co-doping on semiconductor-metal phase transition temperature of vanadium dioxide film

Auteur
YAN JIAZHEN1 ; ZHANG YUE1 ; HUANG WANXIA1 ; TU MINGJIN1
[1] College of Material Science and Engineering, Sichuan University, Chengdu, Sichuan 610064, China
Source

Thin solid films. 2008, Vol 516, Num 23, pp 8554-8558, 5 p ; ref : 20 ref

CODEN
THSFAP
ISSN
0040-6090
Domaine scientifique
Crystallography; Metallurgy, welding; Condensed state physics
Editeur
Elsevier, Amsterdam
Pays de publication
Netherlands
Type de document
Article
Langue
English
Mot clé auteur
Molybdenum-tungsten codoping Muscovite substrate Phase transition temperature Vanadium oxide
Mot clé (fr)
Addition cobalt Addition molybdène Addition tungstène Codopage Couche mince Diffraction RX Dopage Energie surface Facteur transmission Grosseur grain Hystérésis Microscopie force atomique Microstructure Molybdène Morphologie Oxyde de vanadium Plan expérience Procédé sol gel Spectre absorption Spectre photoélectron RX Température ambiante Température transition Transition métal semiconducteur Transition phase Tungstène Vanadium 6855J 8115L Mo VO2 W
Mot clé (en)
Cobalt additions Molybdenum additions Tungsten additions Codoping Thin films XRD Doping Surface energy Transmittance Grain size Hysteresis Atomic force microscopy Microstructure Molybdenum Morphology Vanadium oxide Experimental design Sol-gel process Absorption spectra X-ray photoelectron spectra Ambient temperature Transition temperature Semiconductor metal transition Phase transitions Tungsten Vanadium
Mot clé (es)
Codrogado Doping Factor transmisión Vanadio óxido Transición metal semiconductor Transición fase
Classification
Pascal
001 Sciences exactes et technologie / 001B Physique / 001B60 Etat condense: structure, proprietes mecaniques et thermiques / 001B60H Surfaces et interfaces; couches minces et trichites (structure et propriétés non électroniques) / 001B60H55 Structure et morphologie de couches minces / 001B60H55J Structure et morphologie; épaisseur

Pascal
001 Sciences exactes et technologie / 001B Physique / 001B80 Domaines interdisciplinaires: science des materiaux; rheologie / 001B80A Science des matériaux / 001B80A15 Méthodes de dépôt de films et de revêtements; croissance de films et épitaxie / 001B80A15L Epitaxie en phase liquide; dépôt en phase liquide (phases fondues, solutions et couches superficielles sur des liquides)

Discipline
Physics and materials science Physics of condensed state : structure, mechanical and thermal properties
Provenance
Inist-CNRS
Base de données
PASCAL
Identifiant INIST
20818957

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