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Increasing of the EUV resist's sensitivity

Auteur
KITAI, M. S1 ; SOROKA, A. M2 ; RUDOI, I. G3
[1] Institute on Laser Information Technologies of Russian Academy of Sciences; Pioneskaya str., 2, Troitsk, 142190, Moscow Region, Russian Federation
[2] JSC Innovation-manufacturing Complex Besedy, Moscow Region, Russian Federation
[3] JSC MagAlTech, Moscow, Russian Federation
Titre de la conférence
Fundamentals of laser-assisted micro- and nanotechnologies 2010 (5-8 July 2010, St. Petersburg, Russian Federation)
Nom de la conférence
Fundamentals of laser-assisted micro- and nanotechnologies (St. Petersburg 2010)
Auteur (monographie)
Veiko, Vadim P (Editor); Vartanyan, Tigran A (Editor)
SPIE, United States (Organiser of meeting)
St. Petersburg State University of Information technologies, Mechanics and Optics, Russian Federation (Organiser of meeting)
Source

Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering. 2011, Vol 7996 ; 799612.1-799612.10 ; ref : 16 ref

CODEN
PSISDG
ISSN
0277-786X
ISBN
978-0-8194-8569-4
Domaine scientifique
Electronics; Optics; Physics
Editeur
SPIE, Bellingham, Wash
Pays de publication
United States
Type de document
Conference Paper
Langue
Russian
Mot clé (fr)
Application laser Lithographie Polymère Rayonnement UV extrême 0130C 4262
Mot clé (en)
Laser beam applications Lithography Polymers Extreme ultraviolet radiation
Classification
Pascal
001 Sciences exactes et technologie / 001B Physique / 001B00 Generalites / 001B00A Communication, éducation, histoire et philosophie / 001B00A30 Littérature et publications en physique / 001B00A30C Actes de congrès

Pascal
001 Sciences exactes et technologie / 001B Physique / 001B40 Domaines classiques de la physique (y compris les applications) / 001B40B Optique / 001B40B62 Applications biologiques et médicales

Discipline
Physics : optics Theoretical physics
Provenance
Inist-CNRS
Base de données
PASCAL
Identifiant INIST
24106466

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