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Plan de Classement Pascal
001 Sciences exactes et technologie.
001A Sciences et techniques communes.
001B Physique.
001B00 Generalités.
001B10 Physique des particules elementaires et champs.
001B20 Physique nucleaire.
001B30 Physique atomique et moleculaire.
001B40 Domaines classiques de la physique (y compris les applications).
001B50 Physique des gaz, des plasmas et des decharges electriques.
001B50A Physique des gaz.
001B50B Physique des plasmas et décharges électriques.
001B50B20 Processus élémentaires dans les plasmas.
001B50B25 Propriétés des plasmas.
001B50B27 Etudes de base sur des plasmas spécifiques.
001B50B27A Plasmas à un constituant, plasmas d?électrons et d?ions positifs.
001B50B27C Plasmas à plusieurs constituants, plasmas d?ions négatifs.
001B50B27E Plasmas électrons-positons.
001B50B27G Plasmas fortement couplés.
001B50B27J Plasmas non neutres.
001B50B27L Plasmas poussiéreux ou plasmas complexes ; cristaux de plasma.
001B50B27N Plasmas relativistes.
001B50B30 Dynamique des plasmas et écoulement.
001B50B35 Ondes, oscillations, et instabilités dans les plasmas et les faisceaux intenses.
001B50B38 Interactions des lasers avec les plasmas.
001B50B40 Interactions dans les plasmas (non laser).
001B50B50 Production et chauffage des plasmas.
001B50B50D Sources.
001B50B50G Chauffage (injection de faisceaux de particules, haute fréquence et hyperfréquence, ohmique, résonances cyclotroniques ionique et électronique, excitation de courant).
001B50B50J Production et chauffage par laser.
001B50B50L Production et chauffage par onde de choc et compression.
001B50B50N Chauffage DC ; chauffage ohmique, arcs.
001B50B50Q Chauffage radiofréquence ; résonance cyclotronique ionique, plasmas couplés inductivement, hélicons.
001B50B50S Chauffage micro-onde, résonance cyclotronique électronique, chauffage à la fréquence hybride inférieure, chauffage collisionnel.
001B50B55 Confinement magnétique et équilibre.
001B50B57 Confinement inertiel par laser.
001B50B57B Conception et fabrication de cibles.
001B50B57F Symétrie d?implosion et instabilités hydrodynamiques (Rayleigh-Taylor, Richtmyer-Meshkov).
001B50B57K Allumage rapide des combustibles de fusion comprimés.
001B50B58 Autres méthodes de confinement.
001B50B58E Confinement inertiel par faisceaux d'ions légers.
001B50B58H Confinement inertiel par faisceaux d'ions lourds.
001B50B58L Dispositifs à striction Z, à foyers de plasma et autres dispositifs à striction.
001B50B58Q Confinements électrostatique, haute fréquence et autres.
001B50B59 Faisceaux de particules et sources de rayonnement intenses.
001B50B59M Diodes à haute tension.
001B50B59R Dispositifs à électrons libres.
001B50B59Y Dispositifs plasma pour la génération de rayonnement cohérent.
001B50B65 Simulation des plasmas.
001B50B70 Méthodes et appareillage de diagnostic.
001B50B70D Mesures électriques et magnétiques.
001B50B70G Mesures haute fréquence et hyperfréquence.
001B50B70K Méthodes optiques (ultraviolet, visible, infrarouge).
001B50B70L Méthodes utilisant des rayons X et ?.
001B50B70N Méthodes utilisant des faisceaux de particules.
001B50B72 Etudes en laboratoire de plasmas spatiaux et astrophysiques.
001B50B75 Dispositifs à plasmas.
001B50B75D Propulsion ionique et à plasma.
001B50B75F Générateurs MHD et convertisseurs thermoélectroniques; diodes à plasma.
001B50B75H Torches à plasma.
001B50B75K Commutateurs à plasma (ex.: éclateurs).
001B50B75X Sources basées sur l?émission par effet thermionique et à partir d?un filament .
001B50B77 Applications des plasmas.
001B50B80 Décharges électriques.
001B50B90 Divers.
001B60 Etat condense: structure, proprietes mecaniques et thermiques.
001B70 Etat condense: structure electronique, proprietes electriques, magnetiques et optiques.
001B80 Domaines interdisciplinaires: science des materiaux; rheologie.
001C Chimie.
001D Sciences appliquées.
001E Terre, océan, espace.
002 Sciences biologiques et médicales.
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